晶體生長微觀機理及晶體生長邊界層模型

目錄
序言一
序言二
前言
第1章 晶體生長理論模型的歷史回顧 1
1.1 晶體生長的幾個界面理論模型 1
1.1.1 光滑界面理論模型 1
1.1.2 非完整光滑界面理論模型 2
1.1.3 粗糙界面理論模型 3
1.1.4 多層界面模型（擴展界面模型）4
1.2 SE理論模型與BFDH理論模型 5
1.2.1 SE理論模型 5
1.2.2 BFDH理論模型 6
1.3 周期鍵鏈理論模型 7
1.4 負離子配位多面體生長基元模型 8
參考文獻 9
第2章 拉曼光譜的基本原理和應用 11
2.1 拉曼散射的基本理論 11
2.1.1 拉曼散射現(xiàn)象和本質(zhì) 11
2.1.2 拉曼散射的電磁輻射理論 12
2.1.3 晶體的拉曼散射 14
2.2 拉曼光譜解析及應用 18
2.2.1 晶格振動模式與拉曼光譜 18
2.2.2 拉曼光譜中的峰位指認 18
2.2.3 拉曼光譜的應用 20
參考文獻 25
第3章 熔融法晶體生長微觀機理的拉曼光譜研究 26
3.1 高溫共聚焦拉曼光譜儀 26
3.1.1 共焦顯微拉曼光譜技術 27
3.1.2 激發(fā)光源 28
3.1.3 累積時間分辨技術 28
3.1.4 增強型電荷耦合探測器件 29
3.2 微型晶體生長爐 30
3.3 同成分晶體生長機理的高溫激光顯微拉曼光譜研究 32
3.3.1 Bi12SiO20晶體生長機理的高溫激光顯微拉曼光譜研究 32
3.3.2 Bi4Ge3O12晶體生長機理的高溫激光顯微拉曼光譜研究 34
3.3.3 KNbO3晶體生長機理的高溫激光顯微拉曼光譜研究 38
3.3.4 KTaxNb（1-x）O3晶體生長機理的高溫激光顯微拉曼光譜研究 43
3.3.5 α-BiB3O6晶體生長邊界層的高溫激光顯微拉曼光譜研究 45
3.3.6 α-BaB2O4晶體熔體法生長機理的高溫激光顯微拉曼光譜研究 46
3.4 助溶劑晶體生長邊界層的高溫激光顯微拉曼光譜的研究 52
3.4.1 KGd（WO4）2晶體生長邊界層的高溫激光顯微拉曼光譜研究 52
3.4.2 LiB3O5晶體自助溶生長邊界層的高溫激光顯微拉曼光譜研究 57
3.4.3 LBO晶體MoO3助溶劑生長機理的高溫激光顯微拉曼光譜研究 62
3.4.4 Li2O-B2O3-MoO3冷凝體的固體核磁共振光譜 65
3.4.5 Na2O助溶劑β-BaB2O4晶體生長邊界層研究 72
參考文獻 73
第4章 同步輻射技術在晶體生長微觀機制研究中的應用 79
4.1 同步輻射X射線技術特點 79
4.2 同步輻射X射線在晶體生長微觀機理研究中的應用 81
4.2.1 同步輻射X表面射線衍射原位測量技術 81
4.2.2 用于同步輻射SXRD技術原位觀測的微型晶體生長爐 81
4.3 CsB3O5晶體表面熔化膜結(jié)構(gòu)的SXRD技術的原位研究 82
4.3.1 CBO晶體簡介 82
4.3.2 CBO晶體表面熔化膜同步輻射X射線掠入射實驗 83
4.3.3 CBO晶體表面熔化膜同步輻射X射線的衍射光譜 84
4.3.4 CBO晶體（011）面表面熔化膜的衍射光譜的分析和結(jié)論 87
4.4 其他同步輻射X射線研究晶體生長邊界層微觀結(jié)構(gòu)的技術 88
4.4.1 同步輻射X射線吸收精細結(jié)構(gòu)譜技術研究晶體生長微觀結(jié)構(gòu)演化 89
4.4.2 NaBi（WO4）2晶體的同步輻射XAFS譜的研究 91
4.5 其他同步輻射微束X射線技術原位測量應用的探討 94
4.5.1 同步輻射微束X射線透過式衍射技術應用的探討 94
4.5.2 同步輻射微束X射線小角散射技術應用的探討 95
參考文獻 95
第5章 生長界面靜電場對生長基元形成和取向的影響 98
5.1 晶體生長界面對生長基元取向性和有序度的影響的實驗依據(jù) 98
5.1.1 點電荷的靜電場 98
5.1.2 界面晶面靜電場分布的計算 98
5.1.3 界面晶面靜電場分布計算的結(jié)果 103
5.1.4 界面晶面靜電場分布對邊界層內(nèi)生長基元的作用和影響 105
5.2 晶面電荷的電勢場 106
5.2.1 點電荷的電勢場 106
5.2.2 晶面電勢場的數(shù)值計算 107
5.2.3 晶面電勢場的數(shù)值計算的結(jié)果 109
5.3 量子力學方法的電場的計算 110
5.4 本章小結(jié) 111
第6章 熔融法晶體生長邊界層模型 112
6.1 熔融法晶體生長邊界層模型創(chuàng)建的依據(jù) 112
6.2 熔融法晶體生長邊界層模型內(nèi)容 113
6.3 熔融法晶體生長邊界層模型的特點 114
第7章 宏觀晶體生長規(guī)律的微觀機制 115
7.1 位錯的形成和位錯線垂直晶體生長界面的微觀機制 115
7.1.1 晶格畸變及晶胞應力產(chǎn)生的微觀機制 115
7.1.2 晶體位錯和位錯線形成的微觀機制 116
7.1.3 螺旋位錯產(chǎn)生的微觀機制 117
7.1.4 摻雜晶體中的位錯產(chǎn)生的微觀機制 117
7.1.5 影響位錯形成的其他因素及改善方法 118
7.2 晶體應力開裂的微觀機制 118
7.2.1 晶體開裂宏觀規(guī)律的研究 119
7.2.2 晶體開裂的微觀機制 120
7.2.3 幾種開裂現(xiàn)象的微觀機制分析 122
7.3 晶體生長速率和轉(zhuǎn)速等生長參數(shù)對晶體質(zhì)量影響的微觀機制 126
7.3.1 晶體生長速率對晶體質(zhì)量影響的微觀機制 126
7.3.2 晶體生長轉(zhuǎn)速對晶體質(zhì)量影響的微觀機制 127
7.4 分凝效應的微觀機制 129
7.4.1 分凝效應的宏觀規(guī)律 130
7.4.2 分凝現(xiàn)象的微觀機制 130
7.4.3 生長速率和平衡分凝系數(shù)的關系 131
7.5 組分過冷的微觀機制 133
7.5.1 組分過冷現(xiàn)象的宏觀論述和分析 133
7.5.2 組分過冷形成的晶體生長邊界層模型機制 136
7.6 多晶形成的微觀機制 139
7.7 晶體生長習性的微觀機制 140
7.7.1 晶體生長習性和相關晶體生長習性的研究 140
7.7.2 KGW晶體生長基元的演變及生長習性預測 142
7.7.3 LBO晶體生長習性研究 144
7.7.4 CBO晶體生長習性研究 146
7.7.5α-aB2O4晶體生長習性研究 146
7.7.6 BaBPO5晶體生長習性研究 148
7.7.7 Bi4Ge3O12晶體生長習性研究 149
參考文獻 150
第8章 助溶劑助溶作用微觀機理初步研究 152
8.1 助溶劑作用的微觀機制探討 152
8.2 LBO晶體自助溶生長和MoO3助溶生長結(jié)構(gòu)基元的分析 152
8.2.1 LBO晶體兩種助溶生長的高溫溶液的拉曼光譜分析 153
8.2.2 把大基團裂解成較小的基團是優(yōu)良的助溶劑作用機制 153
8.2.3 MoO3助溶劑作用機理 153
8.3 微觀作用機理推測的一些實驗驗證 156
參考文獻 157
晶體生長邊界層模型應用的展望 159
后記 160
彩圖