注冊(cè) | 登錄讀書(shū)好,好讀書(shū),讀好書(shū)!
讀書(shū)網(wǎng)-DuShu.com
當(dāng)前位置: 首頁(yè)出版圖書(shū)科學(xué)技術(shù)工業(yè)技術(shù)化學(xué)工業(yè)掃描電鏡

掃描電鏡

掃描電鏡

定 價(jià):¥128.00

作 者: 任小明 著
出版社: 化學(xué)工業(yè)出版社
叢編項(xiàng): 能譜原理及特殊分析技術(shù)
標(biāo) 簽: 暫缺

購(gòu)買(mǎi)這本書(shū)可以去


ISBN: 9787122362346 出版時(shí)間: 2020-06-01 包裝: 精裝
開(kāi)本: 32開(kāi) 頁(yè)數(shù): 236 字?jǐn)?shù):  

內(nèi)容簡(jiǎn)介

  《掃描電鏡/能譜原理及特殊分析技術(shù)》詳細(xì)闡述了掃描電鏡-X射線(xiàn)能譜儀基本原理和特殊分析技術(shù)原理及應(yīng)用兩部分內(nèi)容,將掃描電鏡和能譜儀在日常測(cè)試中所遇到的普遍問(wèn)題和部分特殊分析技術(shù)需求從原理到測(cè)試技巧進(jìn)行了全面的闡述。《掃描電鏡/能譜原理及特殊分析技術(shù)》可作為高等院?;瘜W(xué)、化工、材料、生物類(lèi)及相應(yīng)專(zhuān)業(yè)的實(shí)驗(yàn)課參考教材,也可供從事相關(guān)研究的科技人員參考;既適合初學(xué)者入門(mén),也能幫助具備一定經(jīng)驗(yàn)者提高技能,是一本原理性和技術(shù)性強(qiáng)的專(zhuān)業(yè)參考書(shū)。

作者簡(jiǎn)介

暫缺《掃描電鏡》作者簡(jiǎn)介

圖書(shū)目錄

上篇 掃描電鏡-X射線(xiàn)能譜儀基本原理
第1章 概述
1.1 掃描電鏡的產(chǎn)生和發(fā)展
1.2 掃描電鏡的種類(lèi)與特點(diǎn)
1.2.1 掃描隧道顯微鏡(STM)
1.2.2 雙束掃描電鏡(FIB)
1.2.3 環(huán)境掃描電鏡(ESEM)
1.2.4 冷凍掃描電鏡(Cryo-SEM)
1.2.5 掃描透電鏡(STEM)
1.3 掃描電鏡的發(fā)展趨勢(shì)
第2章 掃描電鏡的原理、結(jié)構(gòu)及應(yīng)用技術(shù)
2.1 基礎(chǔ)知識(shí)
2.1.1 分辨率
2.1.2 放大倍率
2.1.3 像差
2.1.4 電子束斑
2.2 電子束與物質(zhì)的相互作用
2.2.1 散
2.2.2 主要成像信號(hào)
2.3 掃描電鏡的結(jié)構(gòu)與工作原理
2.3.1 電鏡的工作原理
2.3.2 掃描電鏡的結(jié)構(gòu)
2.3.3 圖像襯度和成因
2.4 圖像質(zhì)量及主要影響因素
2.4.1 高質(zhì)量圖像特征點(diǎn)組成
2.4.2 圖像質(zhì)量影響因素——儀器參數(shù)
2.4.3 圖像質(zhì)量影響因素——作技術(shù)
2.5 掃描電鏡樣品制備技術(shù)
第3章 X射線(xiàn)能譜儀原理、結(jié)構(gòu)及分析技術(shù)
3.1 X射線(xiàn)的產(chǎn)生及應(yīng)用
3.2 能譜儀結(jié)構(gòu)及工作原理
3.3 能譜測(cè)試中的基本概念
3.3.1 幾何位置
3.3.2 軟件參數(shù)
3.3.3 儀器性能指標(biāo)
3.4 能譜儀的分析特點(diǎn)
3.5 能譜儀定性和定量分析
3.5.1 定性分析
3.5.2 定量分析及校正方法
3.5.3 其他定量校正方法
3.6 能譜儀的分析方法
3.7 能譜分析的主要參數(shù)選擇
3.7.1 加速電壓的選擇
3.7.2 特征X射線(xiàn)的選擇
3.7.3 束流
3.8 能譜定量分析誤差及探測(cè)限
3.8.1 誤差來(lái)源
3.8.2 脈沖計(jì)數(shù)統(tǒng)計(jì)誤差
3.8.3 探測(cè)限(CL)
下篇 特殊分析技術(shù)原理及應(yīng)用
第4章 低電壓成像分析技術(shù)
4.1 低電壓掃描電鏡技術(shù)突破
4.1.1 低電壓成像技術(shù)的限制
4.1.2 低電壓成像技術(shù)的突破
4.2 低電壓成像技術(shù)的應(yīng)用及原理
4.2.1 非導(dǎo)電材料上的成像應(yīng)用
4.2.2 熱敏材料上的成像應(yīng)用
4.2.3 材料極表面區(qū)域的成像應(yīng)用
第5章 高空間分辨率能譜分析技術(shù)
5.1 技術(shù)概述
5.2 低電壓提高能譜空間分辨率技術(shù)
5.2.1 基本原理
5.2.2 低電壓能譜分析特點(diǎn)
5.2.3 典型案例分析
5.3 薄片法提高能譜空間分辨率技術(shù)
5.3.1 基本原理
5.3.2 薄片法分析特點(diǎn)
5.3.3 經(jīng)典應(yīng)用案例分析
第6章 荷電問(wèn)題及其解決技術(shù)
6.1 荷電現(xiàn)象描述
6.2 荷電效應(yīng)的產(chǎn)生機(jī)理
6.3 荷電效應(yīng)對(duì)圖像質(zhì)量的影響
6.4 荷電問(wèn)題的解決技術(shù)及應(yīng)用案例
6.4.1 多余電荷的及時(shí)消除
6.4.2 出入電流的動(dòng)態(tài)平衡
6.4.3 荷電不敏感的成像信號(hào)或裝置選擇
第7章 低真空成像分析技術(shù)
7.1 低真空模式特點(diǎn)
7.2 低真空模式的硬件配備
7.3 低真空成像技術(shù)的應(yīng)用
7.3.1 非導(dǎo)電樣品的直接觀察
7.3.2 生物樣品的原生態(tài)觀察
第8章 高景深及立體成像分析技術(shù)
8.1 技術(shù)概述
8.2 基本理論
8.3 圖像景深的參數(shù)影響及應(yīng)用案例
8.3.1 工作距離對(duì)圖像景深的影響
8.3.2 物鏡光闌對(duì)圖像景深的影響
8.4 立體成像技術(shù)應(yīng)用
第9章 顆粒檢測(cè)分析技術(shù)
9.1 工作原理
9.2 制樣方法
9.3 測(cè)試方法和過(guò)程
9.4 案例分析
第10章 特殊樣品的能譜分析技術(shù)
10.1 輕重元素兼具樣品的能譜分析技術(shù)
10.2 粗糙樣品的定量分析技術(shù)
10.3 譜峰相近元素樣品的能譜分析技術(shù)
10.4 納米填充顆粒能譜分析技術(shù)
10.5 低真空條件下的能譜分析誤差
參考文獻(xiàn)

本目錄推薦

掃描二維碼
Copyright ? 讀書(shū)網(wǎng) leeflamesbasketballcamps.com 2005-2020, All Rights Reserved.
鄂ICP備15019699號(hào) 鄂公網(wǎng)安備 42010302001612號(hào)