薄液膜下錫的腐蝕和電化學(xué)遷移行為

1 緒論
1．1 引言
1．2 錫的性質(zhì)及用途
1．3 錫及其合金的腐蝕研究進(jìn)展
1．3．1 錫及其合金在本體溶液中的腐蝕
1．3．2 錫及其合金的大氣腐蝕
1．4 電化學(xué)遷移
1．4．1 電化學(xué)遷移的概念及分類
1．4．2 電化學(xué)遷移國(guó)內(nèi)外研究現(xiàn)狀
1．4．3 電化學(xué)遷移的研究方法
1．4．4 電化學(xué)遷移研究的環(huán)境介質(zhì)
1．4．5 不同材料的電化學(xué)遷移行為
1．5 薄液膜下的腐蝕電化學(xué)研究
1．5．1 薄液膜下的腐蝕電化學(xué)研究現(xiàn)狀
1．5．2 薄液膜下的陰極過(guò)程
1．5．3 薄液膜下的陽(yáng)極過(guò)程
1．6 研究目的及意義
1．7 研究?jī)?nèi)容
1．8 本研究的創(chuàng)新點(diǎn)
參考文獻(xiàn)
2 實(shí)驗(yàn)裝置與測(cè)試方法
2．1 引言
2．2 電極材料
2．3 化學(xué)試劑和實(shí)驗(yàn)儀器
2．3．1 化學(xué)試劑
2．3．2 實(shí)驗(yàn)儀器
2．4 測(cè)試方法
2．4．1 陰極極化曲線
2．4．2 電化學(xué)阻抗譜
2．4．3 3D顯微鏡原位測(cè)試
2．4．4 掃描電子顯微鏡和能譜分析
2．4．5 X射線光電子能譜
2．4．6 電感耦合等離子體質(zhì)譜
參考文獻(xiàn)
3 薄液膜下錫的腐蝕行為及機(jī)理研究
3．1 引言
3．2 實(shí)驗(yàn)部分
3．2．1 電極的制備
3．2．2 薄液膜下的電解池
3．2．3 液膜厚度測(cè)量裝置
3．2．4 電化學(xué)測(cè)試
3．2．5 表面形貌及化學(xué)組成測(cè)定
3．3 結(jié)果
3．3．1 電化學(xué)測(cè)試結(jié)果
3．3．2 腐蝕產(chǎn)物的形貌
3．3．3 腐蝕產(chǎn)物的化學(xué)組成
3．4 討論
3．4．1 錫在薄液膜下的腐蝕反應(yīng)
3．4．2 陰極極化曲線
3．4．3 電化學(xué)阻抗譜
3．4．4 錫在薄液膜下的腐蝕機(jī)理模型
3．5 本章小結(jié)
參考文獻(xiàn)
4 電化學(xué)遷移研究新方法的建立
4．1 引言
4．2 實(shí)驗(yàn)部分
4．2．1 實(shí)驗(yàn)材料及試劑
4．2．2 電極的制備
4．2．3 薄液膜法原位研究/實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)系統(tǒng)
4．3 結(jié)果
4．3．1 枝晶形貌測(cè)定
4．3．2 電極表面pH值分布測(cè)定
4．3．3 錫的電化學(xué)遷移行為實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)
4．4 討論
4．4．1 薄液膜法的普遍適用性
4．4．2 薄液膜法與水滴實(shí)驗(yàn)法原位圖片效果對(duì)比
4．4．3 薄液膜法與水滴實(shí)驗(yàn)法電化學(xué)結(jié)果重現(xiàn)性對(duì)比
4．5 本章小結(jié)
參考文獻(xiàn)
5 穩(wěn)態(tài)電場(chǎng)下錫的電化學(xué)遷移行為及機(jī)理研究
5．1 引言
5．2 實(shí)驗(yàn)部分
5．2．1 實(shí)驗(yàn)材料及試劑
5．2．2 電極系統(tǒng)及實(shí)驗(yàn)裝置
5．2．3 不同液膜厚度下錫的電化學(xué)遷移行為測(cè)定及表征
5．2．4 不同氯離子濃度、偏壓下錫的電化學(xué)遷移行為測(cè)試
5．2．5 枝晶和沉淀的微觀形貌測(cè)定
5．2．6 沉淀的化學(xué)組成測(cè)定
5．3 結(jié)果
5．3．1 各種液膜厚度下錫的電化學(xué)遷移行為
5．3．2 原位觀察錫在不同氯離子濃度和偏壓下的電化學(xué)遷移行為
5．3．3 電化學(xué)遷移中的電流和短路時(shí)間監(jiān)測(cè)
5．3．4 枝晶和沉淀的微觀形貌
5．3．5 沉淀的化學(xué)組成
5．4 討論
5．4．1 電化學(xué)遷移過(guò)程中的陽(yáng)極、陰極反應(yīng)
5．4．2 沉淀的形成機(jī)制
5．4．3 枝晶生長(zhǎng)的一般機(jī)理
5．4．4 液膜厚度對(duì)電化學(xué)遷移行為的影響
5．4．5 氯離子濃度對(duì)錫的電化學(xué)遷移行為的影響及機(jī)理
5．4．6 偏壓對(duì)錫的電化學(xué)遷移行為的影響及機(jī)理
5．5 本章小結(jié)
參考文獻(xiàn)
6 非穩(wěn)態(tài)電場(chǎng)下錫的電化學(xué)遷移行為及機(jī)理研究
6．1 引言
6．2 實(shí)驗(yàn)部分
6．2．1 實(shí)驗(yàn)材料及試劑
6．2．2 電極系統(tǒng)及實(shí)驗(yàn)裝置
6．2．3 方波類型及電化學(xué)遷移行為測(cè)試
6．3 結(jié)果
6．3．1 原位觀察單向方波電場(chǎng)下錫的電化學(xué)遷移行為
6．3．2 單向方波電場(chǎng)下電流一時(shí)間曲線及短路時(shí)間
6．3．3 原位觀察雙向方波電場(chǎng)下錫的電化學(xué)遷移行為
6．3．4 雙向方波電場(chǎng)下電流一時(shí)間曲線
6．4 討論
6．4．1 方波電場(chǎng)下涉及的化學(xué)/電化學(xué)反應(yīng)
6．4．2 0FF time期間的反向極化及其影響
6．4．3 占空比對(duì)電化學(xué)遷移行為的影響
6．4．4 周期對(duì)電化學(xué)遷移行為的影響
6．4．5 極化方向?qū)﹄娀瘜W(xué)遷移行為的影響
6．5 本章小結(jié)
參考文獻(xiàn)
7 錫、銀、銅在無(wú)鉛焊料電化學(xué)遷移中的作用
7．1 引言
7．2 實(shí)驗(yàn)部分
7．2．1 實(shí)驗(yàn)材料
7．2．2 實(shí)驗(yàn)溶液
7．2．3 電極系統(tǒng)及實(shí)驗(yàn)裝置
7．2．4 電化學(xué)遷移及其檢測(cè)實(shí)驗(yàn)
7．3 結(jié)果
7．3．1 溶液離子成分
7．3．2 枝晶成分
7．4 討論
7．5 本章小結(jié)
參考文獻(xiàn)
8 總結(jié)與展望
8．1 總結(jié)
8．2 前景展望
彩圖