石墨烯及相關(guān)二維材料顯微結(jié)構(gòu)表征

定　價(jià)：￥88.00

作　者：	孫立濤著
出版社：	化學(xué)工業(yè)出版社有限公司
叢編項(xiàng)：	石墨烯技術(shù)前沿叢書
標(biāo)　簽：	暫缺

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ISBN：	9787122332677	出版時(shí)間：	2019-04-01	包裝：	平裝
開本：	16開	頁數(shù)：	256	字?jǐn)?shù)：

內(nèi)容簡(jiǎn)介

　　《石墨烯及相關(guān)二維材料顯微結(jié)構(gòu)表征》詳細(xì)介紹了電子衍射、高分辨透射電子顯微術(shù)、掃描透射電子顯微術(shù)、能譜分析、原位透射電子顯微術(shù)、掃描電子顯微術(shù)、低能電子顯微術(shù)、掃描探針顯微術(shù)在石墨烯、氮化硼、過渡金屬硫族化合物等二維材料顯微結(jié)構(gòu)表征方面的應(yīng)用，既可作為掌握電子顯微分析技術(shù)的自學(xué)用書，也可作為石墨烯等二維材料原子結(jié)構(gòu)研究的前沿讀本。本書可作為材料、物理、化學(xué)、微電子等專業(yè)科研人員的參考書，也可供高等院校高年級(jí)本科生、研究生及科研人員參考和閱讀。

作者簡(jiǎn)介

　　孫立濤，東南大學(xué)電子科學(xué)與工程學(xué)院，副院長(zhǎng)，教授，現(xiàn)任東南大學(xué)電子科學(xué)與工程學(xué)院副院長(zhǎng)（主持工作）、教授、博導(dǎo)，國家杰出青年基金獲得者，教育部長(zhǎng)江學(xué)者特聘教授，科技部“中青年科技創(chuàng)新領(lǐng)軍人才”。兼任MEMS教育部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室副主任，東南大學(xué)-FEI納皮米中心主任，東南大學(xué)-江南石墨烯研究院先進(jìn)碳材料應(yīng)用聯(lián)合研發(fā)中心主任。長(zhǎng)期從事新型納米材料制備、表征與應(yīng)用方面的研究工作；基于原位動(dòng)態(tài)電子顯微學(xué)技術(shù)，發(fā)展了多種從原子尺度上直接開展各種實(shí)驗(yàn)的新技術(shù)與新方法。成果發(fā)表于SCI文章150余篇（其中Science 2篇， Nature及子刊9篇）。申請(qǐng)中國專利70余項(xiàng)，授權(quán)30余項(xiàng)，轉(zhuǎn)讓許可4項(xiàng)，做國際會(huì)議邀請(qǐng)報(bào)告50余次。目前任《電子器件》雜志主編，江蘇省真空學(xué)會(huì)秘書長(zhǎng)，美國IEEE納米技術(shù)委員會(huì)南京分會(huì)主席，歐洲科學(xué)基金會(huì)專家評(píng)審委員會(huì)委員，中國電子顯微學(xué)會(huì)常務(wù)理事，中國石墨烯產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟標(biāo)準(zhǔn)化委員會(huì)副主任，江蘇省石墨烯產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟副秘書長(zhǎng)，歐盟10億歐元“石墨烯旗艦項(xiàng)目”評(píng)審專家。曾獲“江蘇省十大青年科技之星”、石墨烯標(biāo)準(zhǔn)化杰出貢獻(xiàn)獎(jiǎng)、指導(dǎo)學(xué)生團(tuán)隊(duì)獲國家小平科技創(chuàng)新團(tuán)隊(duì)等。

圖書目錄

第1章　緒論/　1
1.1　石墨烯及其他二維晶體的結(jié)構(gòu)與性能 3
1.1.1 石墨烯 3
1.1.2 氮化硼 7
1.1.3 過渡金屬硫族化合物 8
1.1.4 其他二維晶體 9
1.2　本書內(nèi)容的安排 10
參考文獻(xiàn) 10

第2章　電子衍射及衍襯像分析/　14
2.1　電子衍射及衍襯象基礎(chǔ) 14
2.2　電子衍射及衍襯像分析在石墨烯研究方面的應(yīng)用 17
2.2.1 層數(shù)測(cè)定 17
2.2.2 表面形貌分析 21
2.2.3 晶粒分析 23
2.2.4 堆垛順序的判定和旋轉(zhuǎn)堆垛層錯(cuò)分析 25
2.3　電子衍射及衍襯像分析在其他二維晶體研究方面的應(yīng)用 29
2.3.1 氮化硼 29
2.3.2 過渡金屬硫族化合物 31
2.3.3 范德瓦爾斯異質(zhì)結(jié)構(gòu) 34
參考文獻(xiàn) 35

第3章　高分辨透射電子顯微術(shù)/　39
3.1　高分辨電子顯微像的形成 40
3.1.1 試樣對(duì)入射電子的散射 41
3.1.2 電子波的傳播和衍射 42
3.1.3 高分辨像形成過程中的襯度傳遞函數(shù) 44
3.1.4 球差校正電子顯微鏡 50
3.2　高分辨電子顯微像的計(jì)算機(jī)模擬 52
3.2.1 Cowley-Moodie多層法 52
3.2.2 高分辨顯微像的計(jì)算機(jī)模擬 53
3.3　高分辨透射電子顯微術(shù)在石墨烯結(jié)構(gòu)表征方面的應(yīng)用 55
3.3.1 石墨烯層數(shù)表征 57
3.3.2 石墨烯缺陷結(jié)構(gòu)表征 60
3.3.3 石墨烯邊緣結(jié)構(gòu)表征 74
3.4　高分辨TEM在其他二維材料結(jié)構(gòu)表征方面的應(yīng)用 76
3.4.1 氮化硼 76
3.4.2 過渡金屬硫族化合物 81
3.4.3 其他二維材料 83
參考文獻(xiàn) 85

第4章　高分辨掃描透射電子顯微技術(shù)/　92
4.1　高分辨掃描透射顯微像的形成 93
4.1.1 電子束斑的形成及影響因素 94
4.1.2 電子通道效應(yīng) 96
4.1.3 非相干高分辨掃描透射像形成過程中的傳遞函數(shù) 97
4.1.4 球差校正掃描透射顯微鏡 99
4.1.5 高分辨掃描透射像的計(jì)算機(jī)模擬 101
4.2　高分辨STEM在過渡金屬硫族化合物結(jié)構(gòu)表征中的應(yīng)用 101
4.2.1 過渡金屬硫族化合物中的點(diǎn)缺陷表征 103
4.2.2 過渡金屬硫族化合物中的一維缺陷的表征 109
4.2.3 過渡金屬硫族化合物的層數(shù)與堆垛表征 114
4.3　STEM在石墨烯和h-BN結(jié)構(gòu)表征中的應(yīng)用 116
4.3.1 石墨烯的結(jié)構(gòu)表征 116
4.3.2 h-BN的結(jié)構(gòu)表征 121
參考文獻(xiàn) 124

第5章　能譜分析/　130
5.1　X射線能譜分析 130
5.1.1 X射線能譜儀 131
5.1.2 X射線能譜分析 132
5.2　電子能量損失譜分析 135
5.2.1 電子能量損失譜儀 136
5.2.2 電子能量損失譜 137
5.2.3 電子過濾像 141
5.2.4 電子能量損失譜在石墨烯研究方面的應(yīng)用 141
5.2.5 電子能量損失譜在其他二維材料研究方面的應(yīng)用 148
參考文獻(xiàn) 149

第6章　原位透射電子顯微術(shù)/　152
6.1　二維材料在輻照作用下的演變 153
6.1.1 石墨烯在輻照作用下的演變 153
6.1.2 氮化硼在輻照作用下的演變 162
6.1.3 過渡金屬硫族化合物在輻照作用下的演變 165
6.1.4 其他二維材料在輻照作用下的演變 168
6.2　二維材料在熱場(chǎng)作用下的演變 170
6.2.1 石墨烯在熱場(chǎng)作用下的演變 171
6.2.2 過渡金屬硫族化合物在熱場(chǎng)作用下的演變 174
6.2.3 其他二維材料在熱場(chǎng)作用下的演變 177
6.3　二維材料在電場(chǎng)作用下的演變 179
6.3.1 石墨烯在電場(chǎng)作用下的演變 179
6.3.2 過渡金屬硫族化合物在電場(chǎng)作用下的演變 186
6.3.3 其他二維材料在電場(chǎng)作用下的演變 188
6.4　二維材料在力場(chǎng)作用下的演變 191
6.4.1 石墨烯在力場(chǎng)作用下的演變 192
6.4.2 過渡金屬硫族化合物在力場(chǎng)作用下的演變 193
參考文獻(xiàn) 196

第7章　其他顯微分析方法/　203
7.1　光學(xué)顯微分析 203
7.2　掃描電子顯微分析 212
7.2.1 掃描電子顯微術(shù) 212
7.2.2 電子背散射衍射分析 219
7.2.3 原位掃描電子顯微術(shù) 220
7.3　低能電子顯微分析 222
7.3.1 低能電子顯微術(shù) 223
7.3.2 低能電子衍射 229
7.3.3 光電子顯微術(shù) 231
7.4　掃描探針顯微分析 234
7.4.1 掃描隧道顯微術(shù) 235
7.4.2 彈道電子發(fā)射顯微分析 240
7.4.3 原子力顯微術(shù) 242
參考文獻(xiàn) 250