產(chǎn)業(yè)專利分析報(bào)告：全息技術(shù)（第62冊(cè)）

第1章緒論
1.1研究背景
1.2技術(shù)分解
1.3研究方法
1.3.1數(shù)據(jù)庫選用
1.3.2數(shù)據(jù)處理方式
1.3.3數(shù)據(jù)范圍
1.3.4數(shù)據(jù)質(zhì)量評(píng)估
1.4相關(guān)事項(xiàng)和約定
第2章全息技術(shù)全球?qū)＠暾?qǐng)分析
2.1全息存儲(chǔ)
2.1.1全球?qū)＠暾?qǐng)
2.1.2申請(qǐng)趨勢(shì)分析
2.1.3申請(qǐng)區(qū)域分布分析
2.1.4申請(qǐng)人分析
2.2全息檢測(cè)
2.2.1全球?qū)＠暾?qǐng)分析
2.2.2專利布局國家或地區(qū)分析
2.2.3申請(qǐng)人分析
2.2.4申請(qǐng)類型、法律狀態(tài)和技術(shù)構(gòu)成分析
2.3全息顯示
2.3.1全球?qū)＠暾?qǐng)
2.3.2申請(qǐng)量趨勢(shì)分析
2.3.3主要申請(qǐng)人
2.3.4全球被引證數(shù)專利分析
2.4全息光學(xué)元件
2.4.1全球?qū)＠麘B(tài)勢(shì)分析
2.4.2日本專利態(tài)勢(shì)分析
2.5全息防偽
2.5.1專利申請(qǐng)趨勢(shì)分析
2.5.2首次申請(qǐng)國家或地區(qū)分析
2.5.3申請(qǐng)人分析
2.5.4申請(qǐng)類型及法律狀態(tài)分析
2.6小結(jié)
第3章全息技術(shù)中國專利申請(qǐng)分析
3.1全息存儲(chǔ)
3.1.1專利申請(qǐng)趨勢(shì)分析
3.1.2申請(qǐng)人分析
3.1.3申請(qǐng)類型和法律狀態(tài)分析
3.1.4中國國內(nèi)申請(qǐng)人分析
3.2全息檢測(cè)
3.2.1專利申請(qǐng)趨勢(shì)分析
3.2.2區(qū)域申請(qǐng)分析
3.2.3國內(nèi)和國外申請(qǐng)人分析
3.2.4申請(qǐng)類型和法律狀態(tài)分析
3.2.5中國專利續(xù)費(fèi)/放棄趨勢(shì)
3.3全息顯示
3.3.1專利申請(qǐng)趨勢(shì)分析
3.3.2主要申請(qǐng)人中國申請(qǐng)法律狀態(tài)
3.4全息光學(xué)元件
3.4.1發(fā)展趨勢(shì)分析
3.4.2專利類型
3.4.3法律狀態(tài)
3.4.4申請(qǐng)人區(qū)域分析
3.4.5主要申請(qǐng)人分析
3.4.6主要發(fā)明人分析
3.5全息防偽
3.5.1專利申請(qǐng)分析
3.5.2國內(nèi)省市專利分析
3.5.3申請(qǐng)人分析
3.5.4申請(qǐng)類型及法律狀態(tài)分析
3.5.5技術(shù)分支分析
3.6小結(jié)
第4章全息存儲(chǔ)重點(diǎn)技術(shù)分析
4.1概況
4.1.1技術(shù)背景
4.1.2全息存儲(chǔ)概念和產(chǎn)業(yè)概況
4.1.3全息存儲(chǔ)技術(shù)發(fā)展歷程
4.2基礎(chǔ)專利技術(shù)
4.2.1離軸光路
4.2.2同軸光路
4.2.3微全息技術(shù)
4.3重點(diǎn)專利介紹
4.3.1光源
4.3.2記錄結(jié)構(gòu)
4.3.3中間光學(xué)元件
4.3.4伺服控制
4.3.5存儲(chǔ)材料
4.3.6數(shù)據(jù)處理
4.3.7復(fù)制方法
4.3.8盒體結(jié)構(gòu)
4.4ECMA標(biāo)準(zhǔn)
4.5小結(jié)
第5章全息檢測(cè)重點(diǎn)技術(shù)分析
5.1技術(shù)概況
5.2全息顯微
5.2.1總體分析
5.2.2技術(shù)發(fā)展路線
5.2.3技術(shù)功效分析
5.2.4早期基礎(chǔ)性專利分析
5.2.5重點(diǎn)專利
5.3小結(jié)
第6章全息顯示重點(diǎn)技術(shù)分析
6.1“全息”概念的誤用-舞臺(tái)表演、AR/MR、其他
6.2三維全息顯示技術(shù)
6.3全息顯示的演進(jìn)
6.4重點(diǎn)專利介紹
6.4.1計(jì)算全息
6.4.2光源
6.4.3光路設(shè)計(jì)
6.4.4追蹤元件設(shè)計(jì)
6.4.5SLM設(shè)計(jì)
6.4.6針對(duì)特殊應(yīng)用設(shè)計(jì)
6.5小結(jié)
第7章全息光學(xué)元件重點(diǎn)技術(shù)分析
7.1技術(shù)概況
7.1.1全息光學(xué)元件與傳統(tǒng)光學(xué)元件的區(qū)別和聯(lián)系
7.1.2全息光學(xué)元件的主要分類
7.1.3全息光學(xué)元件的理論發(fā)展脈絡(luò)
7.1.4全息光學(xué)元件的制作材料
7.2中國專利技術(shù)分析
7.2.1功效分析
7.2.2中國重點(diǎn)專利
7.3日本專利技術(shù)分析
7.3.1技術(shù)分支分析
7.3.2日本重點(diǎn)專利
7.4全球重點(diǎn)專利分析
7.5小結(jié)
第8章全息防偽重點(diǎn)技術(shù)分析
8.1概念
8.2技術(shù)發(fā)展
8.2.1第一代激光模壓全息圖像防偽技術(shù)
8.2.2第二代改進(jìn)型激光全息圖像防偽技術(shù)
8.2.3第三代加密全息圖像防偽技術(shù)
8.2.4第四代激光全息防偽技術(shù)
8.3重點(diǎn)專利
8.3.1紙幣或證件防偽
8.3.2防偽紙或防偽標(biāo)識(shí)
8.3.3防偽設(shè)備及相關(guān)技術(shù)改進(jìn)
8.3.4微全息圖的結(jié)構(gòu)
8.4小結(jié)
第9章主要申請(qǐng)人技術(shù)分析
9.1全息存儲(chǔ)
9.1.1INPHASE
9.1.2OPTWARE
9.1.3通用電氣
9.1.4索尼
9.1.5日立
9.1.6青島泰谷光電工程
9.2全息顯示
9.2.1SEEREAL
9.2.2LG
9.2.3三星
9.2.4京東方
9.2.5小結(jié)
9.3全息防偽
9.3.1中國印鈔造幣總公司
9.3.2泰寶集團(tuán)
9.3.3湖北聯(lián)合天誠
9.3.4大日本印刷
9.3.5凸版印刷
9.3.6德國捷德
第10章主要申請(qǐng)人的專利申請(qǐng)和運(yùn)營(yíng)策略
10.1全息存儲(chǔ)
10.1.1INPHASE
10.1.2OPTWARE
10.1.3通用電氣
10.1.4索尼
10.1.5日立
10.2全息防偽
10.2.1專利質(zhì)押分析
10.2.2專利許可分析
第11章結(jié)論與建議
附錄申請(qǐng)人名稱約定表
圖索引
表索引