高分子近代分析方法（第2版）

第1章 紫外光譜法
1．1 光譜學(xué)引論
1．1．1 光的特性
1．1．2 光譜分析
1．1．3 光譜分析的特點
1．1．4 聚合物的光譜分析
1．2 紫外光譜的基本原理
1．2．1 紫外一可見光譜的產(chǎn)生
1．2．2 電子的躍遷類型
1．2．3 吸收帶及其特征
1．2．4 影響波長和吸收系數(shù)的因素
1．2．5 紫外一可見光譜儀的基本結(jié)構(gòu)
1．3 紫外吸收光譜在高分子中的應(yīng)用
1．3．1 定量分析
1．3．2 定性分析
1．3．3 聚合反應(yīng)動力學(xué)
1．3．4 其他應(yīng)用
參考文獻(xiàn)
思考題
第2章 紅外光譜法
2．1 紅外光譜原理
2．1．1 分子振一轉(zhuǎn)光譜
2．1．2 雙原子分子的振動光譜
2．1．3 多原子分子的振動光譜
2．2 紅外光譜與分子結(jié)構(gòu)的關(guān)系
2．2．1 常見聚合物的基團(tuán)頻率
2．2．2 影響聚合物基團(tuán)特征頻率的因素
2．2．3 高聚物紅外光譜譜圖解析
2．3 傅里葉變換紅外光譜儀
2．3．1 傅里葉變換紅外光譜儀的組成
2．3．2 紅外光譜分析的相關(guān)技術(shù)
2．4 紅外光譜法在高分子研究中的應(yīng)用
2．4．1 鑒別均聚物
2．4．2 鑒別共混物／共聚物
2．4．3 高聚物取向的問題
2．4．4 聚合物表面的問題
2．5 拉曼光譜
2．5．1 拉曼散射和瑞利散射
2．5．2 拉曼位移與選律
2．5．3 拉曼光譜在高聚物研究中的應(yīng)用
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思考題
第3章 核磁共振波譜法
3．1 核磁共振的基本原理
3．1．1 原子核的自旋與核磁共振的產(chǎn)生
3．1．2 飽和與弛豫過程
3．1．3 化學(xué)位移
3．1．4 自旋的耦合與裂分
3．2 核磁共振波譜儀及實驗技術(shù)
3．2．1 核磁共振波譜儀
3．2．2 核磁共振波譜實驗技術(shù)
3．3 氫核磁共振波譜
3．3．1 H-NMR譜圖表示法
3．3．2 一級譜圖與二級譜圖
3．3．3 H-NMR的化學(xué)位移及影響化學(xué)位移的因素
3．4 碳核磁共振波譜
3．4．1 概述
3．4．2 協(xié)DNMR的去偶技術(shù)
3．4．3 C-NMR的化學(xué)位移
3．5 核磁共振波譜在高分子研究中的應(yīng)用
3．5．1 鑒別聚合物
3．5．2 聚合物立構(gòu)規(guī)整度
3．5．3 共聚物的研究
3．6 核磁共振波譜的其他技術(shù)
3．6．1 NMR應(yīng)用于固體聚合物
3．6．2 二維NlMR譜
3．6．3 NMR成像技術(shù)
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思考題
第4章 質(zhì)譜分析法
4．1 高分子的熱解分析
4．1．1 聚合物熱解分析的特點
4．1．2 聚合物的熱解反應(yīng)
4．1．3 典型高聚物的裂解方式
4．2 有機(jī)質(zhì)譜的基本原理和儀器
4．2．1 有機(jī)質(zhì)譜儀的組成
4．2．2 有機(jī)質(zhì)譜的基本原理
4．2．3 雙聚焦質(zhì)譜儀
4．2．4 質(zhì)譜儀主要性能指標(biāo)
4．2．5 有機(jī)質(zhì)譜圖的表示
4．3 有機(jī)質(zhì)譜中的離子及碎裂
4．3．1 質(zhì)譜中的離子
4．3．2 裂解過程與偶電子規(guī)律
4．3．3 常見有機(jī)化合物的譜圖
4．4 有機(jī)質(zhì)譜圖的解析
4．5 裂解氣相色譜與質(zhì)譜的聯(lián)用
4．5．1 PGC-MS聯(lián)用接口
4．5．2 GC一MS聯(lián)用譜圖及解析
4．5．3 PGC-MS譜圖解析中的問題
4．6 PGC-MS在高分子材料中的應(yīng)用
4．6．1 高聚物的定性鑒定
4．6．2 高聚物的定量分析
4．6．3 共聚物和均聚物的區(qū)分
4．6．4 高聚物的結(jié)構(gòu)表征
4．6．5 高聚物的降解研究
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思考題
第5章 熱分析
5．1 熱重與微商熱重法
5．1．1 熱重和微商熱重法的原理
5．1．2 熱重分析儀的結(jié)構(gòu)
5．1．3 影響熱重曲線的因素
5．1．4 熱重法在高分子中的應(yīng)用
5．2 差熱分析法
5．2．1 差熱分析的基本原理
5．2．2 差熱分析儀器的組成
5．3 差示掃描量熱分析
5．3．1 差示掃描量熱分析的基本原理
5．3．2 差示掃描量熱分析儀的組成
5．3．3 DTA和DSC的幾個問題
5．4 DTA、DSC在聚合物研究中的應(yīng)用
5．4．1 熱轉(zhuǎn)變溫度的測定
5．4．2 共聚物和共混物結(jié)構(gòu)的研究
5．4．3 纖維拉伸取向的研究
5．4．4 聚合物結(jié)晶度的測定
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思考題
第6章 凝膠色譜
6．1 凝膠色譜引論
6．1．1 凝膠色譜的發(fā)展簡史
6．1．2 凝膠色譜法的特征
6．1．3 聚合物分子量分布
6．1．4 聚合物的統(tǒng)計平均分子量
6．2 凝膠色譜法的基本原理
6．2．1 液相色譜概述
6．2．2 凝膠色譜的分離機(jī)理
6．2．3 凝膠色譜法的固定相及其選擇
6．2．4 凝膠色譜儀
6．3 凝膠色譜的數(shù)據(jù)處理
6．3．1 凝膠色譜譜圖
6．3．2 分子量校正曲線
6．3．3 分子量分布的計算
6．3．4 峰展寬的校正
6．4 凝膠色譜在高分子研究中的應(yīng)用
6．4．1 高分子材料生產(chǎn)及加工
6．4．2 共聚物的研究
6．4．3 支化聚合物的研究
6．4．4 聚合物中低分子物的測定
6．4．5 高分子材料老化過程的研究
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思考題
第7章 電子顯微鏡
7．1 電子顯微鏡的誕生
7．1．1 電子束的波粒二象性
7．1．2 電子顯微鏡的誕生歷程
7．2 透射電子顯微鏡
7．2．1 TEM的結(jié)構(gòu)及成像原理
7．2．2 TEM的主要性能指標(biāo)
7．2．3 TEM圖像的襯度原理
7．2．4 TEM的樣品制備技術(shù)
7．3 TEM在聚合物研究中的應(yīng)用
7．3．1 聚合物表面起伏的微觀結(jié)構(gòu)
7．3．2 多相組分的聚合物微觀織態(tài)結(jié)構(gòu)
7．3．3 顆粒的聚合物形狀、大小、粒度分布
7．3．4 聚合物的增韌機(jī)理問題
7．4 掃描電子顯微鏡
7．4．1 SEM的成像原理
7．4．2 SEM的結(jié)構(gòu)及主要性能指標(biāo)
7．4．3 SEM的襯度及其調(diào)節(jié)
7．4．4 SEM用聚合物試樣的制備技術(shù)
7．4．5 光學(xué)顯微鏡、掃描電鏡和透射電鏡的性能的比較
7．5 掃描電鏡在聚合物研究中的應(yīng)用
7．5．1 纖維的結(jié)構(gòu)及缺陷特征
7．5．2 聚合物共混及多相復(fù)合體
7．5．3 有序膜及有序微孔材料
7．5．4 聚合物高壓下的結(jié)晶行為
7．6 原子力顯微鏡
7．6．1 原子力顯微鏡的結(jié)構(gòu)與原理
7．6．2 原子力顯微鏡在高分子中的應(yīng)用
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思考題
第8章 表面分析
8．1 電子能譜的基本概念
8．2 電子能譜的基本原理
8．2．1 XPS的基本原理
8．2．2 UPS的基本原理
8．2．3 AES的基本原理
8．3 電子能譜實驗技術(shù)
8．3．1 樣品的制備
8．3．2 荷電效應(yīng)
8．4 電子能譜在高分子中的應(yīng)用
8．4．1 高分子金屬絡(luò)合物
8．4．2 共聚物表面的測定
8．4．3 聚合物的輻射交聯(lián)
8．4．4 化學(xué)組成及微相結(jié)構(gòu)
8．4．5 薄膜厚度的測定
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思考題
第9章 X射線衍射分析法
9．1 X射線引論
9．1 1 X射線的基本性質(zhì)
9．1．2 X射線與物質(zhì)的相互作用
9．1．3 X射線的相關(guān)技術(shù)
9．2 X射線衍射理論
9．2．1 晶體學(xué)基礎(chǔ)
9．2．2 X射線的衍射的方向
9．2．3 多晶體對X射線衍射
9．2．4 多晶體的衍射強(qiáng)度
9．3 X射線衍射儀裝置
9．3．1 X射線衍射儀部件
9．3．2 X射線衍射分析參數(shù)
9．3．3 X射線衍射儀附件
9．4 X射線衍射分析技術(shù)
9．4．1 X射線物相分析
9．4．2 晶格常數(shù)的分析
9．4．3 應(yīng)力的分析
9．4．4 晶體粒度大小的分析
9．4．5 X射線小角散射分析
9．4．6 高聚物結(jié)晶度和取向度的分析
9．4．7 晶體結(jié)構(gòu)的分析
參考文獻(xiàn)
思考題