光學(xué)薄膜制備技術(shù)

前言
第1章 光學(xué)薄膜原理
1.1 薄膜干涉
1.1.1 光的波動(dòng)性
1.1.2 薄膜干涉
1.1.3 駐波干涉
1.1.4 偏振效應(yīng)
1.2 光學(xué)薄膜系統(tǒng)的特性計(jì)算
1.2.1 矢量作圖法
1.2.2 遞推法
1.2.3 矩陣法
本章小結(jié)
思考與練習(xí)題
第2章 常用光學(xué)薄膜
2.1 增透膜
2.1.1 單層增透膜
2.1.2 雙層增透膜
2.1.3 三層增透膜
2.2 反射膜
2.2.1 金屬反射膜
2.2.2 介質(zhì)高反膜
2.3 分光膜
2.3.1 金屬分光鏡
2.3.2 介質(zhì)分光鏡
2.4 干涉截止濾光膜
2.4.1 截止帶特性
2.4.2 通帶特性
2.4.3 截止濾光片傾斜使用時(shí)的偏振效應(yīng)
2.4.4 利用金屬薄膜的寬帶截止濾光片
2.5 帶通濾光片
2.5.1 法布里一珀珞濾光片
2.5.2 全介質(zhì)法布里一珀珞濾光片
2.5.3 多半波濾光片
2.5.4 誘導(dǎo)透射濾光片
本章小結(jié)
思考與練習(xí)題
第3章 真空鍍膜技術(shù)
3.1 真空知識(shí)
3.1.1 真空基礎(chǔ)知識(shí)
3.1.2 真空泵
3.1.3 真空管道與閥門
3.1.4 真空材料
3.1.5 真空密封
3.1.6 真空的測(cè)量
3.2 真空鍍膜裝置
3.2.1 真空鍍膜機(jī)的構(gòu)成
3.2.2 真空鍍膜機(jī)的安裝與調(diào)試
3.2.3 真空鍍膜機(jī)的操作步驟
3.2.4 真空系統(tǒng)的檢漏
3.3 真空鍍膜方法
3.3.1 電阻熱蒸鍍法
3.3.2 電子束加熱蒸發(fā)
3.3.3 激光蒸發(fā)
3.3.4 反應(yīng)蒸發(fā)
3.3.5 濺射
3.3.6 離子鍍
3.3.7 離子輔助鍍
3.3.8 分子束外延
本章小結(jié)
思考與練習(xí)題
第4章 膜層厚度監(jiān)控方法
4.1 目視法
4.2 光學(xué)監(jiān)控法
4.2.1 極值法
4.2.2 波長調(diào)制法
4.2.3 寬光譜掃描
4.3 石英晶體控制法
4.4 膜層厚度均勻性
4.4.1 膜厚的理論分布
4.4.2 改善均勻性的措施
本章小結(jié)
思考與練習(xí)題
第5章 光學(xué)薄膜制備工藝因素
5.1 制備工藝因素分析
5.1.1 基板處理
5.1.2 制備參數(shù)
5.1.3 蒸汽入射角
5.1.4 老化處理
5.2 工藝因素優(yōu)選
本章小結(jié)
思考與練習(xí)題
第6章 真空鍍膜材料
6.1 金屬薄膜
6.1.1 鋁（Al）
6.1.2 銀（Ag）
6.1.3 金（Au）
6.1.4 鉻（Cr）
6.2 介質(zhì)和半導(dǎo)體薄膜
6.2.1 對(duì)材料的基本要求
6.2.2 幾種常用薄膜的性質(zhì)
6.3 紅外與紫外薄膜
6.3.1 紅外薄膜材料
6.3.2 紫外薄膜材料
6.4 有機(jī)薄膜與任意折射率薄膜
6.4.1 有機(jī)薄膜
6.4.2 任意折射率薄膜
本章小結(jié)
思考與練習(xí)題
第7章 薄膜的結(jié)構(gòu)特性
7.1 薄膜的形成
7.1.1 表面吸附
7.1.2 成核過程
7.1.3 膜的生長
7.2 薄膜的微觀結(jié)構(gòu)
7.2.1 基本的微觀結(jié)構(gòu)特性
7.2.2薄膜生長的計(jì)算機(jī)模擬
7.2.3 薄膜的晶體結(jié)構(gòu)
7.2.4 微觀結(jié)構(gòu)的觀測(cè)
7.3 薄膜的成分
7.4 薄膜微觀結(jié)構(gòu)和成分對(duì)膜層性質(zhì)的影響
7.4.1 光學(xué)不穩(wěn)定性
7.4.2 光學(xué)損耗
7.4.3 折射率非均勻性
7.4.4 抗激光損傷
7.5 改善結(jié)構(gòu)的途徑
本章小結(jié)
思考與練習(xí)題
第8章 光學(xué)薄膜檢測(cè)
8.1 薄膜的光學(xué)性質(zhì)及測(cè)量
8.1.1 光譜特性
8.1.2 光學(xué)常數(shù)
8.2 薄膜的力學(xué)性質(zhì)及其檢測(cè)
8.2.1 薄膜的附著力和硬度
8.2.2 薄膜的應(yīng)力
本章小結(jié)
思考與練習(xí)題
參考文獻(xiàn)