陰極電子學(xué)

第1章 熱電子發(fā)射的理論基礎(chǔ)
1.1 熱陰極的基本參量
1.2 純金屬的熱電子發(fā)射現(xiàn)象
1.3 熱電子發(fā)射的理論基礎(chǔ)
1.3.1 金屬的自由電子模型
1.3.2 金屬中自由電子的狀態(tài)
1.3.3 金屬中自由電子的統(tǒng)計分布
1.3.4 金屬中電子的費米能級
1.4 金屬的表面勢壘和逸出功
1.4.1 表面勢壘
1.4.2 逸出功
1.5 金屬的接觸電位差
1.6 純金屬的熱電子發(fā)射方程
1.7 熱發(fā)射電子的初速及冷卻效應(yīng)
1.8 電場作用下熱發(fā)射電流的流通規(guī)律
1.8.1 “理想”二極管的全伏安特性和極間電位分布
1.8.2 拒斥場下的陽極電流
1.8.3 加速場下的陽極電流--肖特基效應(yīng)
1.8.4 空間電荷限制下的陽極電流--二分之三次方定律
1.8.5 熱電子初速對二分之三次方定律的影響
1.8.6 實際工作狀態(tài)下的熱陰極發(fā)射理論--Longo方程
1.9 實用純金屬陰極
第2章 原子薄膜陰極
2.1 敷釷鎢陰極的熱發(fā)射現(xiàn)象
2.2 發(fā)射機理的探討
2.3 蒸發(fā)與擴散的平衡
2.4 非正常肖特基效應(yīng)與“斑點場”
2.5 其他類型的原子薄膜陰極
2.5.1 碳化敷釷鎢陰極
2.5.2 鑭-鎢、鑭-鉬和釔-鉭陰極
第3章 氧化物陰極
3.1 氧化物陰極的材料和工藝
3.1.1 氧化物陰極的結(jié)構(gòu)和材料
3.1.2 氧化物陰極的制備工藝
3.2 氧化物陰極的發(fā)射模型
3.2.1 氧化物陰極的半導(dǎo)體模型
3.2.2 氧化物陰極的“動態(tài)發(fā)射中心”模型
3.3 氧化物陰極的運用特性
3.3.1 氧化物陰極的涂層電導(dǎo)率
3.3.2 氧化物陰極的發(fā)射特性
3.4 氧化物陰極的改進形式
第4章 其他類型的熱陰極
4.1 儲備式陰極
4.1.1 L陰極
4.1.2 鋇鎢陰極
4.1.3 儲備式陰極的改進形式
4.1.4 儲備式陰極的蒸發(fā)
4.2 六硼化鑭陰極
4.2.1 六硼化鑭陰極的特性
4.2.2 六硼化鑭陰極的制備與結(jié)構(gòu)
4.3 其他類型的熱陰極
4.3.1 氧化釷及稀土氧化物陰極
4.3.2 碳化物陰極
4.3.3 銥鑭陰極
第5章 場致電子發(fā)射
5.1 金屬場致發(fā)射理論
5.1.1 經(jīng)典理論的矛盾
5.1.2 量子理論的定性說明
5.1.3 金屬場致電子發(fā)射方程
5.1.4 金屬場致發(fā)射的實驗研究
5.2 半導(dǎo)體的外場致發(fā)射
5.2.1 半導(dǎo)體的外場致發(fā)射理論
5.2.2 半導(dǎo)體場致電子發(fā)射方程
5.3 內(nèi)場致發(fā)射
5.3.1 介質(zhì)薄膜的內(nèi)場致發(fā)射
5.3.2 反向偏壓pn結(jié)的電子發(fā)射
5.3.3 負電子親和勢內(nèi)場致發(fā)射
5.4 場致發(fā)射陰極的材料和工藝
5.4.1 場致電子發(fā)射的性能參數(shù)及材料選擇
5.4.2 場致發(fā)射陰極的結(jié)構(gòu)和工藝
5.4.3 新型場致發(fā)射材料
5.5 場致發(fā)射陰極的應(yīng)用
5.5.1 顯微技術(shù)
5.5.2 微波真空電子器件
5.5.3 爆發(fā)式電子發(fā)射
5.5.4 場發(fā)射顯示器
5.5.5 場發(fā)射光源
5.5.6 傳感技術(shù)
第6章 光電子發(fā)射
6.1 金屬的光電子發(fā)射
6.1.1 金屬光電子發(fā)射的規(guī)律
6.1.2 金屬光電子發(fā)射的理論
6.2 半導(dǎo)體的光電子發(fā)射
6.2.1 半導(dǎo)體光電子發(fā)射的物理過程
6.2.2 半導(dǎo)體光電陰極的量子效率
6.2.3 獲得高量子產(chǎn)額光電陰極的措施
6.2.4 半導(dǎo)體缺陷能級對光電發(fā)射的影響
6.3 實用光電陰極
6.3.1 光電陰極的主要參數(shù)和材料選擇
6.3.2 實用光電陰極概述
6.3.3 銀氧銫光電陰極
6.3.4 銻銫光電陰極
6.3.5 雙堿與多堿銻化物光電陰極
6.3.6 紫外光電陰極
6.4 負電子親和勢（NEA）光電陰極
6.4.1 NEA光電陰極的工作原理
6.4.2 NEA光電陰極的表面模型
6.4.3 NEA光電陰極的量子效率
6.4.4 NEA光電陰極的材料工藝
6.4.5 NEA光電陰極的研究現(xiàn)狀
第7章 次級電子發(fā)射
7.1 次級電子發(fā)射現(xiàn)象
7.1.1 金屬的次級電子發(fā)射
7.1.2 半導(dǎo)體、絕緣體的次級電子發(fā)射
7.2 次級電子發(fā)射的理論
7.2.1 次級電子發(fā)射的物理過程
7.2.2 次級電子發(fā)射系數(shù)的定量計算
7.2.3 次級電子的能量分布
7.3 次級電子發(fā)射系數(shù)的測量
7.3.1 金屬次級電子發(fā)射系數(shù)的測量
7.3.2 絕緣體和半導(dǎo)體次級電子發(fā)射系數(shù)的測量
7.4 實用次級電子發(fā)射體
7.4.1 次級電子發(fā)射體的應(yīng)用概述
7.4.2 實用次級發(fā)射體
7.4.3 通道式電子倍增器和微通道板
附錄 常用基本物理常數(shù)
習(xí)題
參考文獻