專利維持制度及實(shí)證研究

第一章 緒論
第一節(jié) 研究目的和意義
一、研究目的
二、研究意義
第二節(jié) 文獻(xiàn)綜述
一、國外研究現(xiàn)狀
二、國內(nèi)研究現(xiàn)狀
三、國內(nèi)外研究現(xiàn)狀評述
第三節(jié) 主要創(chuàng)新點(diǎn)
第四節(jié) 研究方法
第五節(jié) 框架結(jié)構(gòu)
第二章 專利維持制度理論分析
第一節(jié) 專利維持制度與專利制度運(yùn)行績效
一、專利保護(hù)期限與專利制度運(yùn)行
二、專利維持制度的優(yōu)劣程度與專利制度的運(yùn)行績效
三、專利維持狀況與專利制度運(yùn)行績效的
評價(jià)指標(biāo)
第二節(jié) 專利維持制度與專利制度中的其他相關(guān)制度
一、專利維持制度與專利保護(hù)范圍
二、專利維持制度與專利創(chuàng)造性標(biāo)準(zhǔn)
三、專利維持制度與專利侵權(quán)的認(rèn)定和賠償數(shù)額確定方式
四、專利維持制度與專利維持年費(fèi)制度
第三節(jié) 專利維持制度理論模型
一、基于創(chuàng)新主體的專利維持理論模型
二、基于公共政策維度的專利維持理論模型
三、完善現(xiàn)有專利維持理論模型需要考慮的問題第四節(jié) 專利維持制度理論架構(gòu)
第五節(jié) 本章小結(jié)
第三章 專利維持時(shí)間及其影響因素
第一節(jié) 專利維持時(shí)間及其相關(guān)概念
一、專利維持時(shí)間與專利法定保護(hù)期
二、專利最優(yōu)保護(hù)期與專利法定保護(hù)期
三、專利維持時(shí)間與專利最優(yōu)維持時(shí)間
第二節(jié) 專利維持時(shí)間與專利質(zhì)量
一、專利質(zhì)量的界定
二、專利維持時(shí)間與專利質(zhì)量的關(guān)系
第三節(jié) 專利維持時(shí)間與技術(shù)創(chuàng)新能力
一、專利信息與技術(shù)創(chuàng)新能力評價(jià)指標(biāo)
二、專利維持時(shí)間與專利制度促進(jìn)技術(shù)創(chuàng)新作用的幅度
第四節(jié) 影響專利維持時(shí)間的主要因素
一、專利技術(shù)信息及商業(yè)化程度對專利維持
……
第四章 專利維持年費(fèi)制度及其優(yōu)化
第五章 我國專利維持總體實(shí)證研究
第六章 我國專利維持分類實(shí)證研究
第七章 結(jié)論與展望
參考文獻(xiàn)
附錄 專利年費(fèi)計(jì)算參考表
后記