材料射線衍射和散射分析

第1章 緒論
1.1 材料結(jié)構(gòu)分析的層次和內(nèi)容
1.2 譜學(xué)的定義及其分類(lèi)
1.3 射線與物質(zhì)的交互作用
1.4 衍射與散射分析發(fā)展簡(jiǎn)史
1.5 “材料射線衍射和散射分析”的內(nèi)容和主要特色
第2章 晶體學(xué)基礎(chǔ)和磁結(jié)構(gòu)
2.1 晶體結(jié)構(gòu)的周期性和點(diǎn)陣空間
2.2 晶體結(jié)構(gòu)的點(diǎn)對(duì)稱(chēng)和點(diǎn)群
2.3 晶體結(jié)構(gòu)的微觀對(duì)稱(chēng)和空間群
2.4 二維晶體學(xué)和表面結(jié)構(gòu)
2.5 磁結(jié)構(gòu)與磁對(duì)稱(chēng)性
2.6 倒易點(diǎn)陣
2.7 晶體的極射赤面投影
2.8 金屬鍵與金屬及其合金的晶體結(jié)構(gòu)
2.9 共價(jià)鍵與共價(jià)晶體的結(jié)構(gòu)
2.10 離子鍵和離子晶體的結(jié)構(gòu)
2.11 分子鍵和分子、晶體的結(jié)構(gòu)
2.12 混合鍵和復(fù)雜晶體結(jié)構(gòu)
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第3章 X射線運(yùn)動(dòng)學(xué)衍射理論基礎(chǔ)
3.1 衍射幾何理論——布拉格方程
3.2 單個(gè)晶胞散射強(qiáng)度
3.3 單個(gè)理想小晶體散射強(qiáng)度
3.4 實(shí)際多晶體衍射強(qiáng)度
3.5 理論衍射圖譜的模擬計(jì)算實(shí)例
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第4章 射線衍射散射實(shí)驗(yàn)方法
4.1 普通X射線源和電子射線源
4.2 中子射線源
4.3 同步輻射光源
4.4 X射線探測(cè)器和記錄系統(tǒng)的發(fā)展
4.5 X射線衍射分析的照相法
4.6 X射線衍射分析的衍射儀法
4.7 X射線小角散射實(shí)驗(yàn)裝置的發(fā)展
4.8 中子衍射和散射實(shí)驗(yàn)方法
4.9 電子衍射和散射實(shí)驗(yàn)方法
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第5章 物相衍射分析
5.1 物相定性分析的原理和ICDD粉末衍射數(shù)據(jù)庫(kù)
5.2 人工檢索、半自動(dòng)檢索和自動(dòng)檢索/匹配
5.3 復(fù)相分析和無(wú)卡相分析
5.4 單晶電子衍射花樣的物相鑒定
5.5 物相定量分析的原理和強(qiáng)度公式
5.6 采用標(biāo)樣的定量相分析方法
5.7 無(wú)標(biāo)樣的定量相分析方法
5.8 大塊樣品定量相分析方法
5.9 物相分析的最新進(jìn)展
主要參考文獻(xiàn)
第6章 點(diǎn)陣參數(shù)的精確測(cè)定
6.1 點(diǎn)陣參數(shù)測(cè)定的誤差來(lái)源
6.2 多晶樣品點(diǎn)陣參數(shù)的精確測(cè)定
6.3 測(cè)定點(diǎn)陣常數(shù)的實(shí)例
6.4 單晶樣品點(diǎn)陣常數(shù)的測(cè)定
6.5 點(diǎn)陣常數(shù)測(cè)定的幾點(diǎn)討論
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第7章 內(nèi)應(yīng)力測(cè)定與分析
7.1 應(yīng)力的分類(lèi)及其X射線衍射效應(yīng)
7.2 單軸應(yīng)力的測(cè)定原理和方法
7.3 平面宏觀應(yīng)力的測(cè)定原理
7.4 平面宏觀應(yīng)力的測(cè)定方法
7.5 應(yīng)力測(cè)定的數(shù)據(jù)處理方法
7.6 三維應(yīng)力及薄膜應(yīng)力測(cè)量
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第8章 多晶織構(gòu)測(cè)量和單晶定向
8.1 織構(gòu)的分類(lèi)和表征
8.2 極圖測(cè)定及其分析
8.3 反極圖測(cè)定
8.4 三維取向分布函數(shù)
8.5 單晶定向與切割
8.6 晶片取向的精確測(cè)定和校準(zhǔn)
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第9章 X射線衍射譜的線形分析
9.1 X射線衍射的晶粒度寬化效應(yīng)—Scherrer公式
9.2 微觀應(yīng)力(應(yīng)變)引起的寬化效應(yīng)
9.3 堆垛層錯(cuò)引起的寬化效應(yīng)
9.4 微晶-微應(yīng)力兩重寬化效應(yīng)的分離
9.5 晶粒大小及其統(tǒng)計(jì)分布的測(cè)定
9.6 分離微晶-層錯(cuò)和微應(yīng)力-層錯(cuò)二重寬化效應(yīng)的最小二乘方法
9.7 分離微晶-微應(yīng)變-層錯(cuò)三重寬化效應(yīng)的最小二乘方法
9.8 分離二重和三重寬化效應(yīng)的計(jì)算程序
9.9 幾個(gè)具體例子
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第10章 二維X射線衍射分析的原理、方法及應(yīng)用
10.1 二維X射線衍射的定義
10.2 單晶樣品的二維X射線衍射術(shù)
10.3 閃爍計(jì)數(shù)管、一維位敏探測(cè)器和二維探測(cè)器記錄多晶衍射花樣的比較
10.4 多晶二維X射線衍射的原理、實(shí)驗(yàn)裝置和二維探測(cè)器
10.5 多晶2D-XRD的應(yīng)用
10.6 二維小角X射線散射
10.7 二維X射線衍(散)射的綜合評(píng)論和發(fā)展趨勢(shì)
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第11章 X射線多重衍射的原理、方法及應(yīng)用
11.1 多重衍射的基本原理
11.2 獲得多重衍射花樣的實(shí)驗(yàn)方法
11.3 多重衍射花樣的指標(biāo)化
11.4 多重衍射理論簡(jiǎn)介
11.5 多重衍射的某些應(yīng)用
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第12章 X射線異常散射分析及應(yīng)用
12.1 異常散射和選擇元素衍射
12.2 相角測(cè)定的異常散射方法
12.3 晶體學(xué)中原子位置的分?jǐn)倖?wèn)題
12.4 異常寬角散射和粉末差分衍射
12.5 原子有序和非晶材料研究
12.6 異常小角X射線散射
12.7 價(jià)態(tài)研究
12.8 衍射異常精細(xì)結(jié)構(gòu)
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第13章 X射線和同步輻射成像術(shù)及其應(yīng)用
13.1 概述
13.2 基于吸收襯度的成像術(shù)及其應(yīng)用
13.3 計(jì)算機(jī)輔助層析成像術(shù)
13.4 基于相位襯度的成像術(shù)及其應(yīng)用
13.5 X射線全息成像術(shù)
13.6 三位一體成像術(shù)和明場(chǎng)像、暗場(chǎng)像
13.7 同步輻射裝置中其他譜學(xué)成像術(shù)
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第14章 X射線與同步輻射光譜術(shù)
14.1 X射線發(fā)射譜及其精細(xì)結(jié)構(gòu)
14.2 X射線吸收譜和近限結(jié)構(gòu)
14.3 擴(kuò)展X射線吸收精細(xì)結(jié)構(gòu)
14.4 俄歇電子能譜
14.5 光電子能譜
14.6 紅外吸收譜和紫外譜
14.7 軟X射線磁圓二色譜術(shù)
14.8 Raman譜和非彈性散射譜
14.9 同步輻射中的譜學(xué)聯(lián)合裝置
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第15章 晶體結(jié)構(gòu)的實(shí)驗(yàn)測(cè)定
15.1 多晶樣品衍射花樣的Rietveld結(jié)構(gòu)精修
15.2 多晶樣品結(jié)構(gòu)測(cè)定的從頭計(jì)算法
15.3 單晶樣品的結(jié)構(gòu)測(cè)定
15.4 表面和界面的結(jié)構(gòu)研究
15.5 測(cè)定晶體結(jié)構(gòu)的相位襯度結(jié)構(gòu)像方法
15.6 自旋結(jié)構(gòu)和磁結(jié)構(gòu)的測(cè)定
15.7 準(zhǔn)晶的衍射效應(yīng)
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第16章 晶體缺陷的衍襯成像觀察和研究
16.1 X射線貌相術(shù)的實(shí)驗(yàn)方法
16.2 電子衍襯成像原理
16.3 X射線和中子衍襯貌相中的襯度
16.4 電子衍襯和X射線及中子衍襯的比較
16.5 貌相圖中缺陷像的分析
16.6 X射線衍襯貌相在單晶生長(zhǎng)及單晶器件工藝中的應(yīng)用
16.7 電子衍襯術(shù)在金屬研究中的應(yīng)用
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第17章 薄膜和一維超點(diǎn)陣材料的X射線分析
17.1 薄膜分析的X射線實(shí)驗(yàn)方法
17.2 原子尺度薄膜的研究
17.3 工程薄膜和多層膜的研究
17.4 一維超點(diǎn)陣材料的研究
17.5 晶體不完整性、應(yīng)變的衍射空間和倒易空間圖研究
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第18章 非晶材料的X射線散射分析
18.1 非晶物質(zhì)及其結(jié)構(gòu)模型
18.2 各向同性非晶物質(zhì)結(jié)構(gòu)的表征
18.3 各向異性非晶物質(zhì)結(jié)構(gòu)的表征
18.4 非晶物質(zhì)結(jié)構(gòu)參數(shù)
18.5 全徑向分布函數(shù)的WAXS測(cè)定
18.6 偏徑向分布函數(shù)WAXS測(cè)定
18.7 全取向徑向分布函數(shù)和柱體分布函數(shù)的測(cè)定
18.8 EXAFS譜的數(shù)據(jù)分析和非晶局域結(jié)構(gòu)EXAFS測(cè)定
18.9 DAFS和EELFS測(cè)定非晶局域結(jié)構(gòu)
18.10 液晶的散射(衍射)研究
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第19章 聚合物和高分子材料的X射線分析
19.1 聚合物材料的結(jié)構(gòu)特征和x射線分析范疇
19.2 聚合物結(jié)晶度的測(cè)定
19.3 聚合物材料的取向分布和取向度測(cè)定
19.4 長(zhǎng)周期高分子材料的小角散射測(cè)定
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第20章 納米材料和介孔材料的X射線分析
20.1 結(jié)晶納米材料的相分析
20.2 非晶納米材料的局域結(jié)構(gòu)測(cè)定
20.3 測(cè)定微結(jié)構(gòu)時(shí)各有關(guān)參數(shù)的獲得
20.4 納米晶大小、微應(yīng)力及層錯(cuò)幾率的測(cè)定
20.5 納米材料小角X射線散射分析原理
20.6 納米材料顆粒大小及其分布的測(cè)定
20.7 納米材料分形(fractal)結(jié)構(gòu)研究
20.8 介孔(meso-pomus)材料的x射線研究
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第21章 材料動(dòng)力學(xué)結(jié)構(gòu)的非彈性散射分析
21.1 動(dòng)力學(xué)結(jié)構(gòu)研究理論基礎(chǔ)簡(jiǎn)介
21.2 動(dòng)力學(xué)結(jié)構(gòu)研究的實(shí)驗(yàn)方法
21.3 結(jié)晶物質(zhì)的點(diǎn)陣動(dòng)力學(xué)研究
21.4 非晶物質(zhì)、聚合物和生物高分子中的動(dòng)力學(xué)結(jié)構(gòu)
21.5 高Tc超導(dǎo)體的點(diǎn)陣動(dòng)力學(xué)研究
21.6 小結(jié)
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第22章 材料結(jié)構(gòu)的綜合研究
22.1 X射線、中子、電子衍射的比較
22.2 材料中原子價(jià)態(tài)的譜學(xué)綜合研究
22.3 晶體結(jié)構(gòu)的綜合測(cè)定
22.4 晶體不完整性的綜合分析
22.5 局域結(jié)構(gòu)的綜合研究
22.6 動(dòng)力學(xué)結(jié)構(gòu)的非彈性散射綜合研究
22.7 合金中元素(部分或全部)取代后原子的占位問(wèn)題
索引