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電子晶體學(xué)與圖像處理

電子晶體學(xué)與圖像處理

定 價(jià):¥138.00

作 者: 李方華 著
出版社: 上??茖W(xué)技術(shù)出版社
叢編項(xiàng): 科學(xué)前沿進(jìn)展叢書(shū)
標(biāo) 簽: 晶體學(xué)

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ISBN: 9787532392261 出版時(shí)間: 2009-03-01 包裝: 精裝
開(kāi)本: 16開(kāi) 頁(yè)數(shù): 453 字?jǐn)?shù):  

內(nèi)容簡(jiǎn)介

  《電子晶體學(xué)與圖像處理》是高分辨電子顯微學(xué)和圖像處理方面的專(zhuān)著,共分三篇,第一篇介紹了運(yùn)動(dòng)學(xué)和動(dòng)力學(xué)衍射理論、各類(lèi)電子衍射花樣、晶體對(duì)稱(chēng)性的會(huì)聚束電子衍射測(cè)定、晶體結(jié)構(gòu)的衍射分析方法,以及基于動(dòng)力學(xué)電子衍射的晶體結(jié)構(gòu)因子精確測(cè)定;第二篇介紹了高分辨電子顯微像的成像原理、像襯度及其近似理論、像的理論計(jì)算以及借助高分辨電子顯微像測(cè)定晶體結(jié)構(gòu)的模型法;第三篇簡(jiǎn)單介紹了高分辨電子顯微像的各種圖像處理方法,著重于高分辨電子顯微學(xué)的求逆,包括從顯微像求定出射波和從顯微像直接求定晶體結(jié)構(gòu)。其中電子晶體學(xué)圖像處理技術(shù)及其在測(cè)定晶體結(jié)構(gòu)和缺陷中的應(yīng)用是第三篇的重點(diǎn),亦是全書(shū)的重點(diǎn)。《電子晶體學(xué)與圖像處理》可作為從事電子晶體學(xué)研究和顯微圖像處理技術(shù)方面的研究人員和高等院校師生的參考書(shū)。

作者簡(jiǎn)介

  李方華,1932年出生于香港,原籍廣東德慶。1952年由武漢大學(xué)選派留學(xué)蘇聯(lián),1956年畢業(yè)于列寧格勒大學(xué)物理系。歷任中國(guó)科學(xué)院物理研究所研究實(shí)習(xí)員、助理研究員、副研究員,現(xiàn)任研究員。1993年當(dāng)選中國(guó)科學(xué)院院士,1998年當(dāng)選第三世界科學(xué)院院士。曾任中國(guó)電子顯微學(xué)會(huì)理事長(zhǎng)、國(guó)際晶體學(xué)聯(lián)合會(huì)電子衍射委員會(huì)委員。現(xiàn)任國(guó)際材料研究中心顧問(wèn)委員會(huì)委員。主要從事微小晶體的結(jié)構(gòu)和缺陷研究,著重于衍射物理和高分辨電子顯微學(xué)的理論、方法和應(yīng)用研究、獲學(xué)術(shù)獎(jiǎng)勵(lì)11項(xiàng),包括作為第一獲獎(jiǎng)人的2006年國(guó)家自然科學(xué)獎(jiǎng)二等獎(jiǎng)、2003年歐萊雅一聯(lián)合國(guó)教科文組織世界杰出女科學(xué)家成就獎(jiǎng)等。

圖書(shū)目錄

第一篇 電子衍射
第1章 運(yùn)動(dòng)學(xué)電子衍射理論
1.1 電子波
1.2 薛定諤方程和玻恩近似
1.3 散射波振幅
1.4 原子散射因子
1.5 無(wú)界和有界周期點(diǎn)陣對(duì)電子的衍射
1.5.1 點(diǎn)陣函數(shù)
1.5.2 無(wú)界s周期點(diǎn)陣對(duì)電子的衍射
1.5.3 有界s周期點(diǎn)陣對(duì)電子的衍射
1.6 晶體對(duì)電子的衍射和結(jié)構(gòu)因子
1.7 電子衍射幾何
1.7.1 倒易點(diǎn)陣
1.7.2 反射球
1.7.3 布拉格方程
1.8 電子衍射強(qiáng)度
1.8.1 嚴(yán)格滿(mǎn)足布拉格衍射
1.8.2 偏離布拉格衍射
第2章 動(dòng)力學(xué)電子衍射理論
2.1 玻恩迭代方法
2.2 布洛赫波方法
2.2.1 貝特理論
2.2.2 色散面
2.2.3 雙束近似
2.2.4 衍射波強(qiáng)度
2.2.5 布洛赫波的通道效應(yīng)
2.3 散射矩陣?yán)碚?br />2.4 豪伊一惠蘭方程
2.5 物理光學(xué)方法
2.5.1 惠更斯原理和基爾霍夫公式
2.5.2 菲涅耳衍射
2.5.3 菲涅耳傳播因子
2.5.4 夫瑯禾費(fèi)衍射
2.5.5 多片理論
第3章 電子衍射花樣
3.1 單晶體的電子衍射花樣
3.1.1 電子衍射花樣的形成和一般特征
3.1.2 零階和高階勞厄帶
3.1.3 衍射斑形狀
3.1.4 禁阻衍射
3.1.5 晶面間距測(cè)定和指標(biāo)化
3.1.6 收集三維衍射數(shù)據(jù)和倒易點(diǎn)陣重構(gòu)
3.1.7 衍射花樣對(duì)稱(chēng)性和衍射群測(cè)定
3.2 多晶體電子衍射花樣
3.3 織構(gòu)電子衍射花樣
3.4 菊池衍射花樣
3.4.1 菊池線的形成
3.4.2 菊池帶
3.4.3 菊池線的指標(biāo)化
3.4.4 菊池衍射花樣的應(yīng)用
3.5 會(huì)聚束電子衍射花樣
3.5.1 衍射花樣的形成和分類(lèi)
3.5.2 零階和高階勞厄帶衍射
3.5.3 零階勞厄帶衍射中的寬條紋
3.5.4 高階勞厄帶線
第4章 晶體對(duì)稱(chēng)性的會(huì)聚束電子衍射測(cè)定
4.1 倒易性原理
4.2 三維對(duì)稱(chēng)元素導(dǎo)致的會(huì)聚束電子衍射花樣對(duì)稱(chēng)性
4.3 31個(gè)會(huì)聚束電子衍射群
4.4 點(diǎn)群測(cè)定
4.5 空間群測(cè)定
第5章 電子衍射晶體結(jié)構(gòu)分析
5.1 嘗試法
5.2 帕特森方法
5.2.1 帕特森函數(shù)
5.2.2 帕特森圖
5.2.3 從帕特森圖推導(dǎo)晶體結(jié)構(gòu)
5.3 重原子法
5.4 直接法
5.4.1 單位結(jié)構(gòu)因子和歸一結(jié)構(gòu)因子
5.4.2 結(jié)構(gòu)因子關(guān)系的不等式
5.4.3 結(jié)構(gòu)不變量和半不變量
5.4.4 塞爾等式和符號(hào)關(guān)系式
5.4.5 一般相位關(guān)系式和正切等式
5.4.6 品質(zhì)因子
5.5 最大熵方法
5.5.1 信息論的最大熵原理
5.5.2 衍射相位的推導(dǎo)
5.6 溫度因子校正和結(jié)構(gòu)修正
5.6.1 溫度因子校正
5.6.2 傅里葉修正
5.6.3 最小二乘修正
第6章 結(jié)構(gòu)因子和電荷密度分布測(cè)定
6.1 精確測(cè)定結(jié)構(gòu)因子的方法和原理
6.1.1 臨界電壓法
6.1.2 菊池線交截法(HOLZ線交截法)
6.1.3 等厚條紋法
6.1.4 擺動(dòng)曲線法
6.2 會(huì)聚束電子衍射技術(shù)的應(yīng)用
6.2.1 用會(huì)聚束電子衍射實(shí)現(xiàn)不同方法
6.2.2 溫度感生臨界電壓效應(yīng)
6.2.3 陰影像會(huì)聚束電子衍射技術(shù)
6.2.4 定量會(huì)聚束電子衍射技術(shù)的優(yōu)化算法
6.3 不同方法的比較
6.4 電荷密度分布測(cè)定舉例
6.4.1 Ni3Al合金
6.4.2 TiAl合金
第二篇 高分辨電子顯微學(xué)
第7章 成像原理
7.1 相位襯度電子顯微像
7.1.1 電子顯微像
7.1.2 點(diǎn)陣像和結(jié)構(gòu)像
7.2 電子與物體的相互作用
7.2.1 出射波與透射函數(shù)
7.2.2 相位物體
7.2.3 弱相位物體
7.2.4 物體的多片模型
7.2.5 贗弱相位物體
……
第8章 像的襯度和模擬像
第9章 模型法測(cè)定晶體結(jié)構(gòu)
第三篇 電子晶體學(xué)圖像處理
第10章 高分辨電子顯微像的圖像處理
第11章 像的解卷處理
第12章 相位擴(kuò)展與衍射強(qiáng)度校正
第13章 微小晶體結(jié)構(gòu)測(cè)定
第14章 原子分辨率晶體缺陷測(cè)定
附錄一 薛定諤方程的積分解
附錄二 傅里葉變換與卷積
附錄三 消光距離鈿(nm)(電子加速電壓為100 kV)
附錄四 消光規(guī)律與點(diǎn)陣類(lèi)型及微觀對(duì)稱(chēng)元素的關(guān)系
附錄五 平面群
附錄六 230個(gè)空間群的GM線規(guī)律表
附錄七 無(wú)公度調(diào)制結(jié)構(gòu)
索引

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