紅外光學(xué)材料

第一章 紅外光學(xué)材料基礎(chǔ)
1.1 引言
1.2 大氣窗口
1.3 黑體輻射??普朗克輻射定律
1.4 波動(dòng)方程和光學(xué)常數(shù)
1.5 反射和折射
1.6 薄膜光學(xué)
1.7 折射指數(shù)和色散
1.8 在各向異性介質(zhì)中光的傳播??雙折射
1.9 透明介質(zhì)中光的散射
1.10 透明介質(zhì)熱輻射的發(fā)射率
1.11 斷裂強(qiáng)度和斷裂韌性
1.12 斷裂強(qiáng)度的統(tǒng)計(jì)分析
1.13 抗熱沖擊品質(zhì)因子
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第二章 紅外光學(xué)材料的光學(xué)性質(zhì)
2.1 引言
2.2 反射
2.3 透過率和吸收系數(shù)及與溫度的關(guān)系
2.4 折射指數(shù)、色散和折射指數(shù)與溫度的關(guān)系
2.5 散射
2.6 發(fā)射率
2.7 紅外光學(xué)材料的微波透射性質(zhì)
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第三章 紅外光學(xué)材料的力學(xué)與熱學(xué)性質(zhì)
3.1 引言
3.2 紅外光學(xué)材料的力學(xué)和熱學(xué)性質(zhì)
3.3 紅外光學(xué)材料的硬度及其影響因素
3.4 約外光學(xué)材料斷裂強(qiáng)度及其影響因素
3.5 藍(lán)寶石單晶的高溫強(qiáng)度
3.6 紅外光學(xué)材料的斷裂韌性
3.7 紅外光學(xué)材料抗熱沖擊品質(zhì)因子
3.8 因體粒子對紅外光學(xué)元件表面的腐蝕
3.9 液體粒子對紅外光學(xué)元件表面的腐蝕
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第四章 紅外光學(xué)材料的制備方法和工藝
4.1 引言
4.2 熱壓工藝
4.3 燒結(jié)、熱壓燒結(jié)和熱等靜壓法
4.4 納米和亞微米氧化物透明陶瓷的制備
4.5 熔體定向凝固法
4.6 導(dǎo)模法（EFG）
4.7 直拉生長法（Czochralski法）
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第五章 化學(xué)汽像沉積制備紅外光學(xué)材料
5.1 引言
5.2 化學(xué)汽相沉積基礎(chǔ)
5.3 CVD ZnS和CVD ZnSe
5.4 CVDβ-SiC
5.5 CVD GaP
5.6 CVD Si3N4
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第六章 金剛石光學(xué)材料
第七章 增透膜和保護(hù)膜
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