分析電子顯微學(xué)導(dǎo)論

緒論
第一章　分析電子顯微鏡的構(gòu)造及其功能
1.1 電子波長(zhǎng)和電磁透鏡
1.1.1 電子波長(zhǎng)
1.1.2　電磁透鏡
1.2　構(gòu)造及其特性
1.2.1　照明系統(tǒng)
1.2.2　多功能樣品室
1.2.3　成像系統(tǒng)
1.2.4　圖像觀察與記錄系統(tǒng)
1.2.5　真空和供電系統(tǒng)
1.2.6　儀器的計(jì)算機(jī)控制和分析數(shù)據(jù)的計(jì)算機(jī)處理
1.3　成像、變倍和衍射實(shí)現(xiàn)的原理
1.4　理論分辨本領(lǐng)極限
參考文獻(xiàn)
第二章　透射電子顯微鏡樣品的制備方法
　2.1　表面復(fù)型技術(shù)
2.1.1　一級(jí)復(fù)型
2.1.2　塑料-碳二級(jí)復(fù)型
2.1.3　抽取復(fù)型
2.2　粉末樣品和薄膜樣品的制備
2.2.1　粉末樣品的制備
2.2.2　薄膜樣品的制備
2.3　塊體樣品制成薄膜的技術(shù)
2.3.1　金屬塊體制成薄膜樣品
2.3.2　無(wú)機(jī)非金屬塊體制成薄膜樣品
2.3.3　高分子塊體制成薄膜樣品
2.3.4　聚焦離子束方法
參考文獻(xiàn)
第三章　電子衍射
3.1 電子衍射與x射線衍射的比較
3.2　衍射產(chǎn)生的條件
　 3.2.1　幾何條件
　3.2.2　物理?xiàng)l件
3.3 電子衍射幾何分析公式及相機(jī)常數(shù)
　 3.3.1　電子衍射儀中的衍射
　3.3.2　透射電子顯微鏡中的衍射
　3.4　選區(qū)電子衍射的原理及操作
　3.5 多晶電子衍射花樣及其應(yīng)用
3.5.1　多晶衍射花樣的產(chǎn)生及幾何特征
3.5.2　多晶電子衍射花樣的應(yīng)用
3.6　單晶電子衍射花樣及其應(yīng)用
3.6.1　單晶電子衍射花樣的幾何特征和強(qiáng)度
3.6.2　單晶電子衍射花樣的標(biāo)定方法
3.6.3　單晶電子衍射花樣的基本應(yīng)用
3.7 大量平行層錯(cuò)的單晶電子衍射花樣
3.7.1　HCP結(jié)構(gòu)的花樣特征和層錯(cuò)概率的計(jì)算
3.7.2　Fee結(jié)構(gòu)的花樣特征和層錯(cuò)概率的計(jì)算
　3.8　系統(tǒng)傾轉(zhuǎn)技術(shù)及其應(yīng)用
　 3.8.1　雙傾臺(tái)系統(tǒng)傾轉(zhuǎn)技術(shù)
　 3.8.2　電子束方向的測(cè)定
　 3.8.3　重位點(diǎn)陣特征參數(shù)的測(cè)定
　 3.8.4　三維重構(gòu)法確定物相
　 3.8.5　跡線分析方法
3.9　復(fù)雜電子衍射花樣的特征和標(biāo)定方法
3.9.1　具有取向關(guān)系的電子衍射花樣
3.9.2　孿晶電子衍射花樣
3.9.3　高階勞厄花樣
3.9.4　超點(diǎn)陣衍射花樣
3.9.5　二次衍射花樣
3.9.6　調(diào)幅結(jié)構(gòu)的電子衍射花樣
3.9.7　長(zhǎng)周期結(jié)構(gòu)的電子衍射花樣
3.9.8　菊池電子衍射花樣
　參考文獻(xiàn)
第四章 晶體衍射中的數(shù)學(xué)處理
　4.1 取向關(guān)系的轉(zhuǎn)換矩陣
4.1.1 基體任意位向下兩相取向花樣的預(yù)測(cè)
4.1.2 晶體在不同坐標(biāo)下的晶向和晶面指數(shù)的轉(zhuǎn)換矩陣
　……
第五章　電子衍射襯度成像
第六章　高分辨和高空間分析電子顯微術(shù)
附錄1　物理常數(shù)和換算關(guān)系
附錄2　晶體幾何關(guān)系
附錄3　立方晶體和晶面（或晶向）夾角表
附錄4　面心立方、體心立方和密排六方標(biāo)準(zhǔn)電子衍射花樣
附錄5　面心立方、體心立方和密排六方高階勞厄標(biāo)準(zhǔn)電子衍射花樣
附錄6　材料常見的幾種結(jié)構(gòu)
附錄7　立方和六方晶系的極圖（c/a=1.633）
附錄8　立方晶體重位點(diǎn)陳特征參數(shù)之間的關(guān)系
附錄9　電子的原子散射振幅
附錄10　特征X射線的波長(zhǎng)和能量表
附錄11　用于電子能量損失譜的電子結(jié)合能表（EELS）
附錄12 分析電子顯微術(shù)的有關(guān)計(jì)算機(jī)軟件
附錄出處說(shuō)明
思考題與練習(xí)題