電子束曝光微納加工技術(shù)

定　價(jià)：￥50.00

作　者：	顧文琪編
出版社：	北京工業(yè)大學(xué)出版社
叢編項(xiàng)：	電子束離子束光子束微納加工技術(shù)系列專著
標(biāo)　簽：	電子其他

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ISBN：	9787563913008	出版時(shí)間：	2004-07-01	包裝：	平裝
開本：	16	頁數(shù)：	310	字?jǐn)?shù)：

內(nèi)容簡(jiǎn)介

　　本書系統(tǒng)地介紹了電子束曝光技術(shù)的發(fā)展歷史和原理、系統(tǒng)的組成和分類、應(yīng)用和發(fā)展前景，同時(shí)詳細(xì)介紹了多種先進(jìn)的電子束曝光機(jī)的性能和技術(shù)指標(biāo)，電子光學(xué)柱、精密工件臺(tái)等分部件和掩模版制作、電子束直刻等關(guān)鍵技術(shù)。全書共分10章，第一章為電子束曝光技術(shù)概論；第二章為電子束曝光機(jī)中的電子光學(xué)系統(tǒng)；第三章為工件臺(tái)及激光干涉儀精密定位；第四章為圖形發(fā)生器；第五章為檢測(cè)、對(duì)準(zhǔn)和校正技術(shù)；第六章為電子束曝光機(jī)的計(jì)算機(jī)控制技術(shù)和數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換；第七章為電子束曝光制圖藝；第八章為真空控制系統(tǒng)；第九章為國(guó)內(nèi)外幾種束曝光機(jī)的介紹；第十章為電子束曝光技術(shù)的應(yīng)用和發(fā)展前景。本書可作為微電子專業(yè)領(lǐng)域的科技人員和從事微電子、微光學(xué)、微機(jī)械等微納加工技術(shù)領(lǐng)域的科技人員的技術(shù)參考書，財(cái)同時(shí)還可作為高等院校專業(yè)教師、研究生的參考用書。

作者簡(jiǎn)介

　　顧文琪，1941年生，中國(guó)科學(xué)院電工研究所研究員，博導(dǎo)，曾任中國(guó)科學(xué)院電工研究所微細(xì)加工研究室主任、副所長(zhǎng)，中國(guó)科學(xué)院高技術(shù)局局長(zhǎng)、綜合計(jì)劃局局長(zhǎng)。1967年起在中國(guó)科學(xué)院電工研究所工作，曾任該所微細(xì)加工研究室主任、副所長(zhǎng)，中國(guó)科學(xué)院高技術(shù)局局長(zhǎng)、中國(guó)科學(xué)院綜合計(jì)劃局局長(zhǎng)?，F(xiàn)任該所研究員、博士生導(dǎo)師，中國(guó)科學(xué)院創(chuàng)新工程重大項(xiàng)目負(fù)責(zé)人。顧文琪研究員，長(zhǎng)期工作在微細(xì)加工科研領(lǐng)域，從事電子束曝光技術(shù)的研究，注重于電子束曝光系統(tǒng)總體設(shè)計(jì)和電子光學(xué)柱設(shè)計(jì)，發(fā)表論文40多篇。先后主持和參與1：1電子束投影系統(tǒng)、可變矩型電子束曝光機(jī)、亞微米電子束曝光機(jī)以及0.1微米電子束曝光機(jī)裝置研究，目前正主持中國(guó)科學(xué)院創(chuàng)新工程重大項(xiàng)目——電子束縮小投影成像曝光系統(tǒng)研究，該項(xiàng)目主攻21世紀(jì)納米電子束光刻技術(shù)。顧文琪研究員，先后獲得中國(guó)科學(xué)院科技進(jìn)步二等獎(jiǎng)3項(xiàng)：DY-5型亞微米電子束曝光機(jī)研制、微米級(jí)電子束曝光機(jī)實(shí)用化、管理現(xiàn)代化的研究和實(shí)踐。

圖書目錄

前言
第一章電子束曝光技術(shù)概論
第一節(jié) 微納加工與曝光技術(shù)
第二節(jié) 電子束曝光技術(shù)的發(fā)展歷史及原理
第三節(jié) 不同類型的電子束曝光系統(tǒng)
參考文獻(xiàn)
第二章電子束曝光機(jī)中的電子光學(xué)系統(tǒng)
第一節(jié) 概述
第二節(jié) 電子光學(xué)基礎(chǔ)
第三節(jié) 電子束曝光機(jī)的透鏡
第四節(jié) 電子束曝光機(jī)的電子槍
第五節(jié) 電子光住的對(duì)中系統(tǒng)
第六節(jié) 電子束曝光機(jī)的偏轉(zhuǎn)掃描系統(tǒng)
第七節(jié) 束閘及其控制
第八節(jié) 電子光學(xué)系統(tǒng)的像差
第九節(jié) 電子束曝光機(jī)聚焦成像和偏轉(zhuǎn)系統(tǒng)的設(shè)計(jì)計(jì)算
參考文獻(xiàn)
第三章工件臺(tái)及激光干涉儀精密定位
第一節(jié) 精密工件臺(tái)技術(shù)的發(fā)展概況
第二節(jié) 激光干涉儀測(cè)量系統(tǒng)
第三節(jié) 雙頻激光干涉儀產(chǎn)品介紹
第四節(jié) 測(cè)量誤差分析及激光干涉儀的安裝與調(diào)整
第五節(jié) 精密工件臺(tái)
第六節(jié) 微動(dòng)工件臺(tái)
第七節(jié) 自動(dòng)輸片系統(tǒng)
第八節(jié) 工件臺(tái)的驅(qū)動(dòng)與控制
參考文獻(xiàn)
第四章圖形發(fā)生器；第五章為檢測(cè)、對(duì)準(zhǔn)和校正技術(shù)
第一節(jié) 掃描圓形電子束曝光機(jī)的圖形發(fā)生器
第二節(jié) 可變矩形電子束曝光機(jī)的圖形發(fā)生器
第三節(jié) 光柵掃描電子束曝光機(jī)的圖形發(fā)生器
第四節(jié) 以DSP為基礎(chǔ)的新型圖形發(fā)生器
第五節(jié) 圖形發(fā)生器的執(zhí)行部件
參考文獻(xiàn)
第六章電子束曝光機(jī)的計(jì)算機(jī)控制技術(shù)和數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換
第一節(jié) 檢測(cè)、對(duì)準(zhǔn)和校正技術(shù)的意義和作用
第二節(jié) 電子與固體的相互作用
第三節(jié) 電子束曝光機(jī)常用的幾種信號(hào)及檢測(cè)器
第四節(jié) 檢測(cè)對(duì)準(zhǔn)校正原理及方法
第五節(jié) 影響電子束曝光機(jī)精度的因素及分析方法
參考文獻(xiàn)
第七章電子束曝光制圖藝
……
第八章真空控制系統(tǒng)
第九章國(guó)內(nèi)外幾種束曝光機(jī)的介紹
第十章電子束曝光技術(shù)的應(yīng)用和發(fā)展前景。