集成非制冷熱成像探測陣列

定　價：￥24.00

作　者：	劉衛(wèi)國，金娜著
出版社：	國防工業(yè)出版社
叢編項：
標(biāo)　簽：	制冷工程

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ISBN：	9787118034127	出版時間：	2004-06-01	包裝：	膠版紙
開本：	21cm	頁數(shù)：	395	字?jǐn)?shù)：

內(nèi)容簡介

　　非制冷熱成像探測的應(yīng)用覆蓋了從民用到國防的諸多領(lǐng)域，如紅外制導(dǎo)、目標(biāo)偵察、火控跟蹤以及安全警戒、大氣檢測等。由于其應(yīng)用的廣泛性，特別是在國防領(lǐng)域的重要應(yīng)用，國內(nèi)從20世紀(jì)90年代開始了相關(guān)研究。本書總結(jié)了作者十多年來在相關(guān)領(lǐng)域的研究成果，并介紹了當(dāng)前研究的新進展。

作者簡介

暫缺《集成非制冷熱成像探測陣列》作者簡介

圖書目錄

第一章熱探測器發(fā)展簡史
  參考文獻
第二章熱探測原理
  2.1 熱輻射及熱探測器基本概念
   2.1.1 熱輻射概念
   2.1.2 熱探測器的基本參數(shù)
  2.2 熱探測器的基本結(jié)構(gòu)
  2.3 測輻射熱計原理
   2.3.1 偏置效應(yīng)
   2.3.2 測輻射熱計的噪聲
   2.3.3 限制測輻射熱計性能的主要因素
  2.4 熱釋電探測原理
   2.4.1 鐵電材料的熱釋電性質(zhì)
   2.4.2 熱釋電探測模式
   2.4.3 熱釋電響應(yīng)
   2.4.4 熱釋電探測器的噪聲
   2.4.5 實際熱釋電探測器
  參考文獻
第三章熱探測材料
  3.1 測輻射熱計材料
   3.1.1 材料選擇依據(jù)
   3.1.2 常用的測輻射熱計材料
  3.2 熱釋電材料
   3.2.1 熱釋電材料選擇的依據(jù)
   3.2.2 常用熱釋電簿膜材料
  參考文獻
第四章熱探測薄膜制備技術(shù)
  4.1 薄膜制備的基本方法
   4.1.1 常用薄弱沉積方法
   4.1.2 薄膜的生長過程
   4.1.3 襯底
   4.1.4 其它薄膜沉積技術(shù)
  4.2 電阻薄膜的沉積
   4.2.1 αSi:H
   4.2.2 VOx薄膜的制備
   4.2.3 非晶YBCO薄膜
  4.3 鐵電薄膜的制備
   4.3.1 化學(xué)溶液法
   4.3.2 濺射
   4.3.3 MOCVD
   4.3.4 脈沖激光沉積技術(shù)（PLD）
  參考文獻
第五章熱探測器的基本結(jié)構(gòu)與集成制造
第六章熱探測器陣列的信號處理
第七章熱探測器陣我與系統(tǒng)性能測試
第八章新型熱探測技術(shù)與熱成像系統(tǒng)的典型應(yīng)用