高分子光化學(xué)導(dǎo)論：基礎(chǔ)和應(yīng)用

自序
第1章 緒論
建議參考的專著
第2章 光化學(xué)與光物理基礎(chǔ)
2?1光化學(xué)的基本概念
2?2激發(fā)態(tài)的生成與衰變
2?3能量轉(zhuǎn)移與光譜增感
2?4光誘導(dǎo)電子轉(zhuǎn)移和有關(guān)理論
2?5激基締合物和激基復(fù)合物
2?6光化學(xué)穩(wěn)態(tài)反應(yīng)動(dòng)力學(xué)――熒光猝滅和Stern-Volmer公式
2?7光化學(xué)瞬態(tài)反應(yīng)動(dòng)力學(xué)――閃光光解
2?8光氧化機(jī)理――單重態(tài)氧及負(fù)氧離子自由基的產(chǎn)生和反應(yīng)
2?9光異構(gòu)化反應(yīng)機(jī)理
建議參考的專著
第3章 光引發(fā)、光聚合和光固化反應(yīng)
3?1引言
3?2自由基聚合的光引發(fā)劑及其反應(yīng)活性
3?2?1光碎片化引發(fā)劑
3?2?2分子間的氫提取反應(yīng)
3?2?3光誘導(dǎo)電子轉(zhuǎn)移(及質(zhì)子轉(zhuǎn)移)發(fā)體系
3?2?4引發(fā)劑的結(jié)構(gòu)和性能的關(guān)系
3?2?5新型光引發(fā)劑和光印發(fā)體系的設(shè)計(jì)
3?3自由基光引發(fā)劑的敏化問題
3?3?1能量轉(zhuǎn)移的光敏化過程
3?3?2電子轉(zhuǎn)移的光敏化過程
3?4陽離子聚合光引發(fā)劑及其反應(yīng)活性
3?4?1重氮鹽類光引發(fā)劑
3?4?2?f鹽類光引發(fā)劑
3?4?3陽離子光引發(fā)劑的敏化分解
3?5光固化及光交聯(lián)化學(xué)
3?5?1光固化反應(yīng)的陽離子引發(fā)體系――芳鐵鹽(LAr)
3?5?2用于光固化的多功能團(tuán)單體及齊聚物
3?5?3硫醇-烯烴光聚合體系
3?5?4陽離子聚合用的單體化合物
3?5?5對(duì)于光固化和光聚合反應(yīng)的檢測(cè)
3?6光引發(fā)聚合(固化)反應(yīng)中的機(jī)制和過程因素的影響
3?6?1光引發(fā)聚合、交聯(lián)反應(yīng)中的一些機(jī)理問題的研究
3?6?2聚合反應(yīng)的環(huán)境效應(yīng)
3?7含顏料體系的光固化問題
參考文獻(xiàn)
第4章 高分子的光氧化降解及光穩(wěn)定化問題
4?1引言
4?2高分子的光氧化降解
4?2?1高聚物對(duì)輻射的吸收
4?2?2光-自由基氧化鏈?zhǔn)椒磻?yīng)的引發(fā)
4?2?3高分子光氧化自由基降解的一般性機(jī)理
4?2?4光氧化降解中的鏈增長、鏈終止和相關(guān)反應(yīng)
4?2?5單重態(tài)氧的氧化機(jī)理
4?2?6負(fù)氧離子的氧化機(jī)理和光脆裂
4?3高分子的光穩(wěn)定原理
4?3?1前言
4?3?2抗氧化劑
4?3?3金屬絡(luò)合物光穩(wěn)定劑
4?3?4作為遮光劑用的顏料
4?3?5紫外吸收劑
4?3?6受阻胺類自由基清除劑
4?3?7單重態(tài)氧的猝滅劑
4?3?8其他類型的光穩(wěn)定劑
4?3?9固化體系中引人穩(wěn)定劑對(duì)固化反應(yīng)的影響
4?4高分子固體材料的光降解
4?4?1高聚物光降解在固相和液相中的差別
4?4?2高分子材料的物理及物理化學(xué)特征對(duì)光降解的影響
4?4?3在高聚物基體中自由基的衰變
4?4?4在高聚物的光降解中影響相對(duì)分子質(zhì)量和相對(duì)分子質(zhì)量分布變化的原則
4?4?5高聚物光氧化反應(yīng)動(dòng)力學(xué)
4?4?6高聚物力學(xué)性能對(duì)降解的影響
參考文獻(xiàn)
第5章 高分子光化學(xué)與光物理功能材料
5?1引言
5?2激光誘導(dǎo)光聚合反應(yīng)
5?2?1計(jì)算機(jī)直接制版技術(shù)
5?2?2在微電子學(xué)方面的應(yīng)用
5?2?3三維立體圖像制作技術(shù)
5?2?4光全息照相
5?3激光輻照引起的高聚物表面的侵蝕
5?3?1激光輻照對(duì)高聚物表面侵蝕的機(jī)理
5?3?2兩類不同的高分子材料
5?3?3蝕刻深度的估算和機(jī)理討論
5?3?4侵蝕后高聚物材料的表面結(jié)構(gòu)形態(tài)
5?3?5激光輻照高聚物表面侵蝕的實(shí)際應(yīng)用
5?3?6利用可見與紅外激光輻射對(duì)高聚物進(jìn)行熱加工
5?4光刻技術(shù)的新進(jìn)展
5?4?1負(fù)性光刻膠
5?4?2正性光刻體系
5?4?3光刻體系的新進(jìn)展
5?4?4光致生酸體系與化學(xué)增幅效應(yīng)
5?4?5影像反轉(zhuǎn)過程
5?4?6反差增強(qiáng)層技術(shù)
5?4?7無顯影光刻技術(shù)
5?4?8微細(xì)圖像加工的光刻技術(shù)的發(fā)展趨勢(shì)
5?5熒光太陽能聚光器
5?5?1FSC對(duì)所用熒光染料的要求
5?5?2CODE值的問題
5?5?3FSC器件的制作
5?5?4FSC的損耗及效率問題討論
5?6高分子太陽能光/能轉(zhuǎn)換材料
5?7小分子有機(jī)薄層及高分子電致發(fā)光材料
5?7?1分子有機(jī)薄層電致發(fā)光材料與器件(OLED)
5?7?2高分子電致發(fā)光材料
5?8光電子信息功能材料
5?8?1光誘導(dǎo)電子轉(zhuǎn)移的基本理論
5?8?2有機(jī)非線性光學(xué)材料(NLO)及電/光材料參考文獻(xiàn)
參考文獻(xiàn)
第6章 熒光探針技術(shù)在高分子科學(xué)中的應(yīng)用
6?1引言
6?2探針分子的結(jié)構(gòu)、物化性能以及所處環(huán)境特征的影響
6?2?1溶劑的極性對(duì)探針分子發(fā)光峰值波長與熒光強(qiáng)度的影響
6?2?2溶劑極性對(duì)探針激發(fā)態(tài)能級(jí)以及發(fā)光峰值波長位置的進(jìn)一步討論
6?2?3具扭曲的分子內(nèi)電荷轉(zhuǎn)移特征的探針化合物
6?2?4以熒光振動(dòng)精細(xì)結(jié)構(gòu)隨溶劑極性而變的Ham效應(yīng)為基礎(chǔ)的探針化合物
6?2?5利用偏振熒光對(duì)高分子體系進(jìn)行研究
6?3熒光探針技術(shù)在高分子科學(xué)中的應(yīng)用
6?3?1有關(guān)利用熒光探針來研究高分子的鏈結(jié)構(gòu)及高分子材料物化參數(shù)問題
6?3?2通過熒光探針來研究高分子光化學(xué)與光物理問題
6?3?3通過熒光探針研究高分子體系的聚合反應(yīng)過程
6?4利用熒光探針研究特殊環(huán)境的物理化學(xué)性質(zhì)
6?4?1熒光探針法測(cè)定膠束，囊胞等特殊環(huán)境的微極性和微黏度
6?4?2熒光探針法測(cè)定膠束的聚集數(shù)
6?4?3熒光探針研究高分子溶液的Sol-Gel過程和凝膠化點(diǎn)的測(cè)定
參考文獻(xiàn)