納米材料分析

定　價：￥30.00

作　者：	黃惠忠等編著
出版社：	化學(xué)工業(yè)出版社
叢編項：	分析科學(xué)現(xiàn)代方法叢書
標(biāo)　簽：	暫缺

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ISBN：	9787502540975	出版時間：	2003-03-01	包裝：	平裝
開本：	20cm	頁數(shù)：	355	字?jǐn)?shù)：

內(nèi)容簡介

　　“納米科技”是指在納米尺度（0.1-1OOnm）上研究物質(zhì)的特性和相互作用以及利用這些特性開發(fā)新產(chǎn)品的科學(xué)與技術(shù)?！都{米材料分析》內(nèi)容是納米科技的重要方面之——一納米檢測與表征的方法與技術(shù)。書中介紹了在納米尺度上原位研究各種納米結(jié)構(gòu)的電、磁、光、熱、力學(xué)等特性；納米空間的化學(xué)過程、物理運輸過程；以及納米空間的原子、分子的排列、組裝與其奇異的物性的關(guān)系的研究方法。包括了全部的納米材料現(xiàn)代檢測技術(shù)，詳述了方法原理與檢測技術(shù)，并有具體實例。《納米材料分析》可供從事納米材料研究與器件開發(fā)的科技人員學(xué)習(xí)參考，亦可作為相關(guān)領(lǐng)域的研究生教材。

作者簡介

暫缺《納米材料分析》作者簡介

圖書目錄

第一章緒論
1.1 尺寸效應(yīng)
1.2 納米結(jié)構(gòu)功能材料與器件的分子工程研究
1.3 納米結(jié)構(gòu)分析器件
參考文獻(xiàn)
第二章掃描隧道顯微術(shù)
2.1 STM基礎(chǔ)知識
2.2 STM實驗方法
2.3 STM應(yīng)用舉例
參考文獻(xiàn)
第三章原子力顯微術(shù)
3.1 AFM基礎(chǔ)知識
3.2 AFM的不同操作模式
3.3 納米材料研究中的AFM
參考文獻(xiàn)
第四章針尖化學(xué)
4.1 針尖化學(xué)的概念
4.2 針尖的化學(xué)修飾方法
4.3 分子間力與表面力
4.4 化學(xué)力滴定
4.5 表面化學(xué)識別
4.6 表面化學(xué)反應(yīng)的監(jiān)測
4.7 鍵能與鍵強度的測定
4.8 化學(xué)反應(yīng)的限域
4.9 單分子性質(zhì)測定
參考文獻(xiàn)
第五章 XPS及與其他技術(shù)組合在納米材料分析中的應(yīng)用
5.1 XPS對Au(111)上4-巰基氫化肉桂酸自組裝膜的表征
5.2 XPS與高分辨透射與掃描電鏡組合對納米線和納米電纜的表征
5.3 XPS等研究pH對納米結(jié)晶WO3膜結(jié)構(gòu)和光致變色特性的影響
5.4 角分解XPS(Angle?Resolved XPS,ARXPS)對自組裝單層(Self Assembled Monolayers,SAMs)的分析
5.5 XPS等對在引發(fā)劑修飾的SAMs上進行聚(CN-異丙基丙烯酸胺)合成的分析
5.6 烷基胺和烷基硫醇對小Pt納米原子團簇的表面修飾：XPS研究有機配體對小Pt納米原子團簇結(jié)合能的影響
5.7 用XPS峰形分析測定表面納米結(jié)構(gòu)
5.8 XPS和近邊X射線吸收精細(xì)結(jié)構(gòu)對Au和Ag上含硫芳香族自組裝單層結(jié)構(gòu)的分析
5.9 X射線光電子衍射(Xray Photoelectron Diffraction,XPD)對SiC和AlN外延膜多種類型和極化性的研究
參考文獻(xiàn)
第六章紫外光電子能譜在納米材料分析中的應(yīng)用
6.1 第一排過渡金屬和C3原子團簇的振動分辨光電子能譜：MC-3（M=Sc,V,Cr,Mn,Fe,Co和Ni）
6.2 UPS等對自組裝有機/無機半導(dǎo)體界面上酞菁鉛電子結(jié)構(gòu)的分析
6.3 光電發(fā)射譜對單壁碳納米管束的分析
6.4 角分解光電子發(fā)射分析準(zhǔn)一維導(dǎo)體Nb3Te4
6.5 角分解光電子能譜（ARPES）和STM等分析半導(dǎo)體表面上自組織的量子線
參考文獻(xiàn)
第七章飛行時間二次離子質(zhì)譜術(shù)、電子能量損失譜和表面擴展X射線吸收精細(xì)結(jié)構(gòu)等在納米材料分析中的應(yīng)用
7.1 飛行時間二次離子質(zhì)譜術(shù)對自組裝單層的分析
7.2 電子能量損失譜在納米材料分析中的應(yīng)用
7.3 表面擴展X射線吸收精細(xì)結(jié)構(gòu)譜等對Cu(100)上自組裝納米尺度Fe島結(jié)構(gòu)和磁性的分析
7.4 近邊X射線吸收精細(xì)結(jié)構(gòu)譜（NEXAFS）等對氧化硅納米原子團的形態(tài)、光致發(fā)光和電子結(jié)構(gòu)的分析
7.5 XPS等對Si納米線中表面結(jié)構(gòu)、光致發(fā)光和激發(fā)的比較研究1
參考文獻(xiàn)
第八章俄歇電子能譜在納米材料分析中的應(yīng)用
8.1 引言
8.2 俄歇電子能譜原理
8.3 俄歇電子能譜儀的結(jié)構(gòu)
8.4 俄歇電子能譜的實驗技術(shù)
8.5 俄歇電子能譜圖的分析技術(shù)
8.6 俄歇電子能譜在納米材料研究上的應(yīng)用
參考文獻(xiàn)
第九章 X射線結(jié)構(gòu)分析技術(shù)
9.1 X射線衍射分析基礎(chǔ)
9.2 X射線衍射的基本理論
9.3 X射線衍射裝置和實驗
9.4 X射線衍射分析
9.5 納米材料研究中的XRD分析
參考文獻(xiàn)
第十章納米材料的顆粒度分析
10.1 基礎(chǔ)知識
10.2 粒度分析方法
10.3 粒度分析的樣品制備
10.4 粒度分析在納米材料中的應(yīng)用
參考文獻(xiàn)
第十一章電子顯微分析技術(shù)
11.1 透射電鏡（TEM）基礎(chǔ)知識
11.2 掃描電鏡（SEM）基礎(chǔ)知識
11.3 電鏡技術(shù)在納米材料研究中的應(yīng)用
參考文獻(xiàn)
第十二章振動光譜技術(shù)
12.1 振動光譜的基本原理
12.2 納米材料的紅外吸收和拉曼散射行為
12.3 幾種典型的振動光譜實驗技術(shù)
參考文獻(xiàn)